掩模相关论文
本文主要研究基于二元四次Box样条的多进制细分算法。在文中,我们对二进制Loop （?）田分算法进行了推广,首次得到了规则三角形网格上......
该文详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法。针......
LIGA技术是微加工技术的一个重要手段,有着其它技术所不能够相比的优越性能.BSRE自1993年起开展了这项技术的研究工作,经历了近十......
采用不同网格尺寸的透射电镜铜网作为掩模,采用烷烃硫醇类小分子自组装单层作为光刻胶,光学质量的云母为衬底,用亚稳氦原子光刻技......
下一代光刻技术（ＮＧＬ）研究和选择已经成为当前半导体制造行业最为引人关注的热点问题。在这些技术之中，Ｘ射线光刻技术被认为是最接近于实用......
采用光诱导光子晶格的方法，利用3 孔、4 孔、5 孔、8 孔和12 孔掩模在掺铁铌酸锂晶体中写入多重旋转对称结构的二维光子晶格。基于......
提出了一种使用飞秒激光直写掩模加工微柱阵列的方法。利用高重复频率飞秒激光的热氧化效应在硅表面制作出二氧化硅点阵列,然后经......
近年来，巡航导弹空地导弹等红外成像精确制导武器飞速发展，在现代战争中发挥了越来越重要的作用。基于红外成像的导引头在对地面目标......
软X射线平焦场光谱仪具有消像差、平焦场、结构紧凑等特点，广泛应用于同步辐射、强激光等领域。软X射线变间距光栅是平焦场光谱仪的......
目的:解决智能舌诊中肝郁线自动识别问题。方法:设计了一个掩模,在使用深度卷积神经网络模型自动提取特征时,专注于肝郁线所在部位......
针对带有光瞳掩模的超分辨系统，提出了一种基于极坐标的性能 价标准，同时根据衍射光学相关理论，提出了变距圆光栅函数掩模花样。模拟......
制得了一类新型的热稳定性光敏聚合物。在这一类聚合物中有对光不稳定的芳族酰胺键。这些聚合物能用于平版印刷凹凸图象,在微型电......
测定了一组乙烯基聚合物抗蚀剂和光致抗蚀剂的等离子体和活性离子蚀刻速率,以及离子铣蚀刻速率;并发现在合成中改变乙烯侧基取代基......
以自制杂化双向拉伸聚丙烯/氧化硅(BOPP/SiOx)有机/无机杂化膜为基材,由喷墨打印机直接在杂化膜表面打印色阶图案,制备出对紫外光......
采用金属有机化学气相沉积方法在无掩模的直径为400nm的圆柱Si(100)图形衬底上外延生长了GaAs薄膜。图形衬底采用纳米压印技术及反......
用掩模分离方法或薄膜刻蚀方法制作出多波段微型滤光片列阵，将这类微型焦平面色散元件与列阵探测器结合，构成光谱可识别列阵探测器，报......
系统设计人员经常在探索使用各种方法来满足日益增长的高工作速度的需求.一种看来似乎显而易见的答案就是使用较快的逻辑电路,但是......
暗场对准技术是利用光学暗场成像原理和微光真空光电探测技术，使投影光刻硅片上的标记获得大幅值、高信噪比的对准信号通过双池偏差......
文章讨论了ＭＪＢ３ＵＶ３００型光刻机的控制调整。以及抗蚀剂工艺条件的改进，消除影响曝光分辨率的驻波和衍射作用，实现了边缘整齐陡直、０．４μｍ条宽的光刻......
通过模拟了解光刻工艺问题＝ｕｎｄｅｒ－ｓｔａｎｄｉｎｇｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｉｓｓｕｅｓｔｈｒｏｕｇｈｓｉｍｕｌａｔｉｏｎ［刊，英］／Ｎｅｕｒｅｕｔｈｅｒ．Ａ．Ｗ．Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．－１９９３．３２（１２Ｂ）．－５８...
Understand lithography process issues through simulation = under-standinglithographytec......
从Ｈｏｐｋｉｎｓ公式出发，分析部分相干因子σ的物理意义，同时主要讨论在建立相移掩模软件中部分相干因子σ的应用
Based on the Hopkins formula......
介绍了在研制微型红外滤光片中将半导体器件制作工艺与基本ＰＶＤ方法结合而成的掩模分离方法，及其制备微型滤光片和将几种滤光片集成在一......
Ｘ射线光刻综述＝Ｘ－ｒａｙｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ－ａｎｏｖｅｒｖｉｅｗ［刊，英］／Ｐｅｃｋｅｒａｒ．Ｍ．Ｃ．…Ｐｒｏｃ．ＩＥＥＥ．－１９９３．８１（９）．－１２４９～１２７４论述了Ｘ射线光刻的基本原理，讨论了分辨率、硅片产量及工艺范围等问题。把Ｘ射线...
X-ray lithography overview ......
用相位掩模光刻制作光纤内的布拉格光栅用相位掩模光刻法已把布拉格光栅写入光纤和平面玻璃结构。由加拿大通讯研究中心发展的这种......
近年来，电铸在微细加工中的应用得到了较快发展，尤其在近几年高速发展的ＬＩＧＡ技术的掩模加工和其应用产品中，该技术充分体现出了它的优越性......
本文报告了一种获得侧壁陡直的硅深槽新技术．实验中采用一种新材料──氮化锆（ＺｒＮ）作为反应离子刻蚀的掩模，所需掩模厚度约５００．采用氟基气体ＳＦ６作......
本文报道了一种由＜１１０＞条组成的，用于（１００）硅ＫＯＨ各向异性腐蚀的凸角补偿图形．该图形的设计特点是利用不对称的分枝和端点弯头对条上腐蚀前沿实现控......
本文以中国华晶中央研究所1．0微米工艺线为例，探讨了国内中小批量ASIC加工线提高成品率所考虑的几个因素，并介绍了电话机拨号电路9145......
布基球在半导体中的应用由碳原子组成的足球状的布基球自从１９８５年发现后仅得到为数不多的应用。现在，加利福尼亚的两位研究人员发现了它......
能把现场编程能力与ASIC的性能及密度优点相结合的器件即将出现。Actel和Lucent两家公司目前已宣布制造新型芯片将掩模功能块与SR......
随着改革开放政策的逐步深入，我国的微电子工业有了飞快的发展，华晶电子集团公司MOS事业部和双极录像机电路、上海贝岭公司、菲利浦......
低功耗ＢＩＣＭＯＳＡ／Ｄ转换器日本ＮＥＣ公司在今年的国际固体电路会议上发表了一个只用一节电池（０．９～１．５Ｖ）工作的８ｍｗ、８位１５ＭＨＺ采样速率的Ａ／Ｄ转换器。该器件是一个４级流水线型分......
据《国际半导体》杂志（英文）1995年第8期报道，索尼公司已开发成功一种能用于0．18μml艺的光刻技术。在最近几年，为了大规模高密度单芯片......
目前，器件生产厂家和光刻设备制造厂家正在准备进行０．３５μｍ电路的生产。很明显，光学片子步进机仍然是主要的生产设备，但对ｉ线和远紫外片子步......
硅制的微机械元件,大多是用湿化学蚀刻法制成的,由于蚀刻率与取向有依赖关系,所以这一步的掩模设计要求许多经验,有的情况下要求......
Ｅｅ－ＢＥＳ－４０光栅扫描电子束曝光机全部实现自动控制，为用户操作带来极大方便。本文简要论述该机的构成及调试中遇到的问题。重点论述真空自动化......
微米级生产线实用化电子束曝光机研制成功５月２３日中国科学院组织有关专家对电工研究所完成的微米级实用化电子束曝光机进行了技术鉴定......
东京松下研究所东京公司开发了一台准分子激光多轴钻孔机，用XeCI准分子激光（308urn）处理多层高密度的印刷电路板。该设备用光学分束的......
高重复频率激光等离子体软X射线光刻术是国际上制作亚微米及深亚微米量级微器件、微结构的关键技术方法之一。目前国内尚未见有关......
