光刻机相关论文
随着特征尺寸（CD）的不断减小和套刻精度的不断提高,对AMC（气相分子污染物）引起的污染问题越来越重视。投影光刻机中对AMC的浓度的控制,......
本文通过案例研究方法，采用三螺旋空间理论构建大学-产业-政府三者之间互动逻辑的分析框架，以国家02重大专项和集成电路产业基金政策......
超精密位移测量系统是光刻机不可或缺的关键分系统之一，而基于激光外差干涉技术的超精密位移测量系统同时具备亚纳米级分辨率、纳米......
对于步进扫描投影光刻机，掩模台和工件台的同步伺服性能将直接影响整机技术指标。掩模台和工件台是典型的六自由度超精密运动台，在耦......
集成电路的发展至今已有60余年，对更为强大性能芯片的追求使得芯片制造技术不断迭代升级。长期以来，基于紫外光源投影曝光光刻的芯片......
光刻技术是半导体集成电路技术发展的主要推动技术，其不断提高的分辨率与图形复制精度成功地将集成电路制造线宽从40多年前的2～3μm......
光刻机是支撑集成电路芯片制程不断减小的关键设备，而高性能的光刻机需要高加速度和高精度的运动台作为支撑。为了达到光刻机的各项......
光刻机是制造集成电路的核心设备,随着集成电路向先进制程不断发展,集成电路制造业对光刻机套刻精度要求越来越高。运动台定位精度......
论述了NIKON i12D(type3)光刻机Notch定位原理和圆片搜寻对准原理.根据150 mm(6英寸)圆片晶向,提出了一种在圆片被送入承片台之前......
为了提高复杂集成电路装备制造质量,介绍了一款适用于集成电路装备制造的智能化装配平台.通过智能调度系统,将不同功能模块组合成......
针对不同图形周期、占空比、方向的微电子器件,采用不同的照明方式能够使光刻机的分辨率和焦深达到最优.本文分析了一种新颖的、能......
提出了一种光刻机照明系统的多自由度均匀性校正方法。当照明光瞳的部分相干因子发生变化时,该方法的校正手指只需整体在光轴方向......
提出了一种基于 FPGA的光场均匀性测量同步采集方案。在大面积光场均匀性测量中，探头步进扫描法需要对大面积光场进行扫描，因此需要......
提出了一种新的光刻机投影物镜像差原位检测(AMF)技术。详细分析了该技术利用特殊测试标记检测投影物镜球差、像散、彗差的基本原......
提出了应用于光刻机照明系统照明光场均匀性的高精度校正方法,该方法通过优化手指阵列式均匀性校正器中校正手指前端的形状及其排......
波片通常用于测量光学系统的偏振效应。对于大入射角的超高数值孔径（NA）成像系统，待测光不再平行于系统光轴，而是与系统光轴有较大夹角......
设计了一个基于二维光栅的高精度位置测量系统的硬件在环仿真平台,分析了测量模型在编程过程中产生误差的原因,并使用该仿真平台测......
产率作为光刻机三大关键指标之一，在高端光刻机中占有重要的地位，而掩模台位移测量系统的计算周期直接影响着产率，因此研究掩模台位移......
南极天文望远镜、空间引力波探测装置、极大规模集成电路制造装备、光刻机……这一系列关键装备的加工制造,都需要依靠超高精度的......
你可以拿着小巧的手机打游戏,可以用纤薄的笔记本电脑看动画片,这一切都要归功于半导体技术的发展。自从用半导体制作的晶体管取代......
经历了“芯片荒”与“技术封锁”的双重Debuff，芯片产业是否"自主、安全、可控”一跃成为广泛关注的话题之一。在如此大背景下，华为......
双工作台就是光刻机上的一台机床。走位必须精准,以前是单面加工,现在是双面的了。早上起来,我不巧还看了关于中国高精尖机床的现......
近日,青岛新核芯高端封测项目首台光刻工艺设备进场仪式在山东青岛西海岸新区举行,标志着该项目建设进入关键性节点,为年底投产奠......
提出一种深紫外波长条件下熔石英光学元件应力双折射的评估方法。该方法利用有限元仿真技术获取熔石英光学元件内若干截面的应力数......
在合肥的西面,沿着创新大道行至“无人处”,就是国产PCB光刻机公司芯碁微装的新生产基地。初春暖阳斜照人窗,在厂房内辟出的简易办......
阐述光刻机产业发展历史和当前产业现状,分析阿斯麦(ASML)、尼康(NIKON)、佳能(CANON)等企业的成败原因,为我国光刻机产业发展寻求......
企业竞争的实力就是创新能力在上海微电子装备有限公司总经理贺荣明看来,高科技领域其实是一个没有硝烟的战场。“高端技术领域的......
“集成电路制造关键装备用高精密碳化硅陶瓷部件研制技术”是中国建筑材料科学研究总院为清华大学等单位承担的国家科技重大专项“......
近几个月来的经济发展速度明显放慢,人们对此产生的最大疑问是:“经济会开始滑坡进而导致衰退,还是要‘软着陆’呢?”半导体设备......
本文以中国华晶中央研究所1．0微米工艺线为例，探讨了国内中小批量ASIC加工线提高成品率所考虑的几个因素，并介绍了电话机拨号电路9145......
适用于６４ＭＤＲＡＭ批量生产的缩小投影曝光设备日本尼柯恩公司研制出适用于６４ＭＤＲＡＭ批量生产的ｉ线步进光刻机ＮＳＲ２２０５ｉ１２Ｄ。产品具有０．３５μｍ以下的高分辨率，并采用适用批量......
介绍了伺服图形预刻机中光路控制的方法.通过控制声光调制器的输入实现了光强和脉冲调制,通过采样光强维持功率恒定.文中给出了实......
用于批量生产２５６ＭＤＲＡＭ的光刻机一般用于批量生产６４ＭＤＲＡＭ的光刻机采用ｉ线，用于批量生产２５６ＭＤＲＡＭ的光刻机采用ＫｒＦ激态复合物的激光器。日本尼可公司推出用于批量生......
