photolithography相关论文
High-performance thin film lithium niobate[LN]electro-optic modulators with low cost are in demand.Based on photolithog-......
“Double Exposure Method”: a novel photolithographic process to fabricate flexible organic field-effe
A novel process called "double exposure method" has for the first time been developed to utilize common organic materi......
Nanopillar array is an indispensable functional structure for many scientific researches.In this paper, one kind of nano......
在二元光学衍射微透镜的制作工艺中, 光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重 要的作用。光刻和刻蚀两道工序都要求实际图......
基于角谱衍射理论，对扫描积分塔尔博特光刻术进行了理论分析与数值模拟。研究了扫描距离、扫描起始位置、扫描速度非匀速以及照明光......
柔性透明电极因其轻便、柔性、低成本等特点备受广大研究者的关注，在平板显示器、太阳能电池、触控面板等光电器件中具有很好的应用......
提出了一种原位的光刻机投影物镜偏振像差检测方法。定义一种新的偏振像差表征方法,推导了3对正交偏振态照明下空间像之差与偏振像......
针对穆勒矩阵成像椭偏仪的系统误差源提出一种简化分析方法,将光强曲线的理想傅里叶级数系数组与实际系数组进行近似匹配,建立穆勒......
提出了应用于光刻机照明系统照明光场均匀性的高精度校正方法,该方法通过优化手指阵列式均匀性校正器中校正手指前端的形状及其排......
光刻机的照明光瞳性能对曝光图形质量和套刻精度均有重要影响。照明光瞳由光刻机照明系统产生,在光刻机长时间使用后,照明光瞳的性......
光刻用准分子激光器的能量特性在集成电路的光刻过程中至关重要,直接影响光刻机曝光线条的精度。为了实现对于衡量能量特性的能量......
研究了多层微图案的成像特性,将基于光刻技术制作的微米级和高透光微图案附着在透明玻璃基板上,这种带有图案的玻璃基板堆叠约50层......
提出一种制作连续沟形微光学元件的新方法，用移动物面上二元图案的方法来获得连续灰度的记录，再用卤化银明胶处理技术，把灰度银像转化......
在光刻机可变狭缝系统(VS)中,紧凑型复合节流静压气浮导轨是实现高精度、高加速度运动的首选结构.研究表明,导轨气浮工作面上加工......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
Large-area polydimethylsiloxane (PDMS) films with variably sized moth-eye structures were fabricated to improve the effi......
Improved conductivity and capacitance of interdigital carbon microelectrodes through integration wit
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
Microstructuring of carbon/tin quantum dots via a novel photolithography and pyrolysis-reduction pro
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
介绍了利用AZ4620光刻胶制作截面为5μm×5μm微电镀模的工艺流程,详细说明了工艺流程中影响实验结果的实验参数以及实验参数的优......
应用光刻和薄膜沉积技术,制作了多级衍射光学元件.对制作误差和影响误差的因素进行了分析.给出了改善对准误差的标校方法,并在实际......
Design of Microstructure Parameters on a Small Multi-Throttle Aerostatic Guideway in Photolithograph
A compact multi-throttle aerostatic guideway is the preferred structure for high precision and acceleration motion in th......
采用掩膜电解加工单个微孔的方式研究加工参数对凹坑形貌的影响,该方法具有操作简易以及工件无内应力等优点。采用COMSOL软件对加......
简要介绍了表面放电型ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术,并对这些工艺中所存在的一些问题进行分析和讨论.......
由于半导体晶圆制造过程的复杂性,使得实时控制过程难于实施.针对光刻区的不同状态,提出一种基于Kohonen神经网络的多策略实时调度......
本文介绍了亚100纳米工艺可制造性验证的一组工艺仿真和错误定位技术,制定了标准单元可制造性设计(DFM,Design For Manufacturabil......
利用化学镀铜方法,结合光刻技术,研究了在阳极氧化Al基板上的金属化布线.设计了完成化学镀铜金属化图形的工艺流程,并对影响图形制......
对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示，所制备光波导在1550nm的传输损耗为2．01dB／cm，且具有高的侧壁......
研究了曝光剂量对于小孔成型孔径的影响。实验中发现由于SU-8为负性光刻胶,曝光聚焦条件控制不佳会导致倾角较大的倒梯形结构,不利......
:本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。更多还原......
为了获得更高性能的TFT—LCD面板，在光刻时保证精细的图形成像十分重要，其中，如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一。本文提......
针对纳米压印光刻技术中压印脱模后的留膜去除问题,提出了一种基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术.采用传统的光刻版作为紫外压印......
介绍了色分离光栅的设计原理,并对其制作工艺进行了研究。用套刻法以能量为450 eV、束流密度为80 mA/cm2、30°入射角的离子束......
A physical model for simulating overlay metrology employing diffraction based overlay(DBO)principles is built.It can hel......
介绍了半导体工艺中光刻版的重要作用，特别针对在实际工艺中使用普通玻璃材质光刻版对产品造成的成品率波动问题。通过对大量实验中......
本文提出了以玻璃为基质，以厚感光有机膜为铸模，利用光刻法制作大面积金属场致发射阴极阵列的新方法，对该方法的工艺结果进行了计算机......
通过对预烘、光刻胶旋涂、软烘焙、对准曝光、后烘、显影、坚膜的光刻工艺过程分析,主要介绍了光刻工艺中容易出现的问题及解决方......
本文阐述了离轴照明提高曝光分辨率和增加焦深的原理，应用Ｈｏｐｋｉｎｓ理论研究了其成像特性。给出了两种离轴照明方式－四极照明和环形照明下的空......
一种容量达1250MB的磁盘驱动器正在研究中，其关键是利用电子束曝光及半导体工艺技术，本文对高速、大容量磁盘驱动器进行了探索，利用电......
对在LiNbO3晶体基片上制作声光可调谐滤波器（AOTF）光刻工艺参数的确定进行了研究．着重研究了匀胶机转速、曝光时间和显影时间对光刻效......
简述相移掩模的基本原理，提出了用相移掩模光刻技术制作大相对孔径的二元透镜的设想，通过数据模拟对相移掩模光刻技术做了探讨，给出了......
ITO Etched by Photolithography Used in the Fabrication of Flexible Organic Solar Cells with PET Subs
...
本文通过对涂胶、曝光等影响线宽参数的工艺进行实验,制定了一套工艺规范,使光刻线宽控制在±10%以内,提高了光刻的工艺水平.......
根据移相掩模基本原理,通过光刻工艺模拟提出了一种适于T形栅光刻的新型移相掩模技术--M-PEL.初步实验证明,M-pEL技术可在单层厚胶......
建立了连续深浮雕微透镜列阵光刻工艺的数学模型,通过计算机仿真实现了对工艺过程的模拟分析.为刻蚀过程中各参量的选取和刻蚀结果......
采用X射线反射（XRR）谱对同步辐射导致的氧化物薄膜的刻蚀进行了在位测试，结果表明波长为0．154nm的单色X光在室温下可对MgO和Cr2O3产生......
详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法，针对用于......
综合叙述了浸没式光刻技术的基本工作原理和相对于157 nm干式光刻技术的优势,简要介绍了当前的研发动态并对其具体实现的问题进行......
随着微加工技术的发展,在材料表面构筑功能化的纳微米级图案越来越成为关注的热点。在生物科学领域,光刻蚀、微接触印刷和蘸笔纳米......
