动态气体锁相关论文
开展了动态气体锁抑制率的实验研究，设计了一套极紫外真空动态气体锁实验验证系统；进行了真空抽气系统的详细设计，形成了具有实际可操......
从理论上系统性地研究了动态气体锁抑制率,提出了动态气体锁理论分析模型。通过理论分析推导出单组分和多组分清洁气体在等截面或......
随着集成电路的进一步发展，波长为13.5nm的极紫外(EUV)光刻技术成为前沿和趋势。由于EUV辐射被包括空气在内的几乎所有物质强烈吸收......
满足极紫外(EUV)真空要求的动态气体锁是极紫外光刻机的重要部件。本文阐述了动态气体锁研究的必要性和国内外研究现状;首次提出动......
以清洁气体种类和流量以及污染气体放气率为变量,进行了单组分清洁气体的动态气体锁(DGL)流场仿真,并以混合清洁气体的体积比为变......
集成电路的快速发展促进了光刻机的更新换代,极紫外光刻技术在下一代光刻技术的竞争中逐渐脱引而出。污染隔离与控制是EUV技术的核......
