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基于光刻机全球产业发展状况分析我国光刻机突破路径
基于光刻机全球产业发展状况分析我国光刻机突破路径
来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ycf0319
【摘 要】
:
阐述光刻机产业发展历史和当前产业现状,分析阿斯麦(ASML)、尼康(NIKON)、佳能(CANON)等企业的成败原因,为我国光刻机产业发展寻求突破路径提供新思路。
【作 者】
:
郭乾统
李博
【机 构】
:
中国电子信息产业集团有限公司
【出 处】
:
集成电路应用
【发表日期】
:
2021年9期
【关键词】
:
集成电路
光刻机
产业布局
发展思路
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阐述光刻机产业发展历史和当前产业现状,分析阿斯麦(ASML)、尼康(NIKON)、佳能(CANON)等企业的成败原因,为我国光刻机产业发展寻求突破路径提供新思路。
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