正性光刻胶相关论文
描述了用高功率脉冲激光打靶产生的等离子体作为软Ｘ射线源而进行的接近式软Ｘ射线光刻研究。采用正性光刻胶ＰＭＭＡ．得到了一些新的研究结果．
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线型间-甲酚-甲醛树脂是正性光刻胶的成膜剂或粘附剂,在正胶中除了有成膜作用外还能在显影液中与邻迭氮萘醌磺酸酯型光敏剂偶合而......
利用两种不同重均分子量的改性酚醛树脂(PF)与一种三个酯化度的四羟基二苯甲酮―重氮萘醌磺酸酯光敏剂(PAC)按比例配制,加入适量助......
苏州瑞红电子化学品有限公司:集成电路用正性光刻胶由苏州电子材料厂与日本瑞翁和日本丸红公司合资成立的苏州瑞红电子化学品有限......
基于正负胶结合的UV-LIGA 技术在金属基底上制作了一种新型无源微型射频同轴传输器.针对制作过程中由于胶膜内部曝光剂量分布不均......
BP-212正性光刻胶作为掩膜在BHF腐蚀液中腐蚀十几分钟后,光刻胶被腐蚀液破坏而浮胶.玻璃或热生长的二氧化硅深槽腐蚀时间要求几十......
分子玻璃材料和多光子光刻技术分别是近年来光刻胶和光刻技术领域的研究热点．本文对分子玻璃正性光刻胶在多光子光刻中的应用进行了......
首先以α-萘酚、间甲酚、甲醛为单体,通过缩聚反应合成了萘酚基酚醛树脂NAPR,随后与二碳酸二叔丁酯(DBDC)反应制备了一系列t-BOC改......
通过对硅片翘曲情况及AZ603-14cp正性光刻胶的测试,在步进光刻机的聚焦曝光原理基础上分析了硅片翘曲对条宽均匀性的影响.从而得到......
本文论述了微型箔式应变计的工艺特点和用光化学法制微型箔式应变计的主要工艺问题。通过实践,认为采用正性光刻胶和高浓度三氯化......
