膜厚均匀性相关论文
为了提高窄带滤光膜的有效镀膜面积，用电子束与离子辅助沉积技术制备了大尺寸光通信滤光膜。利用离子束刻蚀原理修正膜层均匀性，研究......
为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性，用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性，用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度，并研究不同离子束......
目的 提高新疆天文台南山观测基地ZZS1800-1/G真空镀膜机的膜厚均匀性指标。方法 通过建立旋转行星夹具系统的膜厚分布模型，利用高......
通过实验优化了方形基片喷雾涂胶工艺.以AZ6130光刻胶作为研究对象,实验过程中在改变胶液体积流量和氮气压力条件下,采用二流体喷......
基于非余弦膜厚计算公式,提出了利用极坐标简化表征膜厚分布的方法,对单源电子束蒸发的光学薄膜的膜厚均匀性控制进行了研究,同时......
红外滤光片,尤其是中长波红外窄带滤光片等光谱指标要求较高的红外光学薄膜,膜层厚度能达到几十微米,因而对膜料的需求非常大。当......
对介质－金属组合的建筑节能薄膜进行了理论设计，给出双导和三层膜的理论参数，用计算机模拟了大面积薄膜的膜厚均匀性分布，获得了最佳的......
本文简要介绍了ＱＥ１４—４０／１Ａ电子枪的结构、性能和特点，给出了电子偏转曲率半径以及偏转磁场与电流的关系曲线
In this paper, the structure......
随着航空航天事业的不断发展,研究者们逐渐开始关注空间高能粒子的相关特性,各种高能粒子探测器不断被研发出来,实现对高能粒子不......
本文针对平板玻璃蒸发镀膜机中的膜厚分布问题，详细讨论了如何通过合理布置蒸发舟源的空间位置，获得理想均匀的膜厚分布。具体介绍了......
提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型,借助Matlab模拟仿真软件,对卷绕柔性衬底(宽度为100 mm,弯曲半径为100 mm,弯曲角为80°)......
研究了1.1m大口径镀膜机热蒸发制备金属铝膜的膜厚均匀性问题,针对旋转平面夹具分析了夹具高度H以及蒸发源与真空室中心轴距离L对......
光学膜系的膜层厚度的均匀性是指膜层厚度随着基板表面位置变化而变化的情况.膜厚均匀性不好,膜系特性会遭到严重的破坏.影响膜厚......
尽管有很多模型对平面磁控溅射膜厚分布进行了模拟，但对大面积曲面如半球形的头罩膜厚分布的模拟则没有涉及。本文根据磁控溅射球冠......
为了获得实验所需要的Ｚｒ衰减膜，他们用直流磁控溅射的方法对Ｚｒ衰减膜的制备工艺进行了探索，用自制的α测厚仪和α－ｓｔｅｐ２００台阶仪测量了Ｚｒ膜的质量厚......
平板偏振膜作为强激光系统中重要的光隔离和光开关元件，其性能高低对整个激光系统的性能和稳定性有着至关重要的影响。为了使激光系......
主镜镀膜是大型天文望远镜研制关键技术之一。国内首次采取主镜镜面向上真空蒸镀制备方式，开展了2m级大型天文望远镜主镜铝加介质保......
本文通过改变靶基距及样品与靶面偏转角等实验参数，采用直流磁控溅射离子镀技术在三种（1＃:角α=60°，2#:角α=90°，3#:凹角α=60°）样品......
磁控溅射镀膜是工业镀膜生产中最主要的技术之一，尤其适合于大面积镀膜生产。膜厚均匀性、靶材利用率等问题一直是磁控溅射技术研究......
光学薄膜是许多现代光学元件和光学系统中不可缺少的组成部分，其质量的好坏直接影响光学薄膜元件及光学系统的性能。高功率激光技术......
为提高磁控溅射薄膜的厚度均匀性,采用理论计算的方法分析了离轴溅射薄膜的厚度分布,结果表明最佳偏心距及对应的有效薄膜尺寸都与......
本文从理论上分析了磁控溅射镀膜中基片的运动方式对沉积薄膜厚度均匀性的影响。在考虑了溅射环内不同位置刻蚀权重的情况下,对静......
利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性,分析了均匀性的影响因素,指出了工艺中的调整......
1引言rn大多数多晶硅太阳电池的减反射膜都是用增强的等离子化学气相沉积法(PECVD)沉积的掺氢氮化硅膜层(Sinx:H).和其它减反射膜(......
研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进......
镀膜在国民经济生活中得到广泛应用。影响镀膜性能的一个主要参数是膜层在整个基片上的厚度均匀性。利用挡板在基片上多个区域沉积......
氮化硅薄膜是一种重要的薄膜材料，具有优良的光电特性和物理性能，将在微电子、光电及薄膜晶体管等领域中有广泛的应用。本文采用等离......
为了获得高精密与超薄化电子陶瓷薄膜,针对基于计算机硬盘存储系统中磁头相对磁盘的动压悬浮原理的电子陶瓷薄膜动压悬浮流延法提......
本文依据L.Holland的膜厚公式和I.A.Neil的关手光学元件表面的数学表达式讨论了热蒸镀形镀膜机的膜厚均匀性,计算了平面、球面。高......
本发明涉及一种提高产品横向膜厚均匀性的吹膜模头，属于塑料加工的技术领域，吹膜模头包括分流间隙、模唇间隙和阻流环，并且塑料熔体从......
本文建立了多工位公自转磁控溅射系统镀膜过程的物理模型，通过把基片运动与镀膜过程的模拟结合在一起，运用时间步长划分的算法仿真公......
介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术，根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均......
在光学镀膜中，镀膜面积越大，薄膜厚度均匀性就越难控制。膜厚均匀性不好，膜系特性将遭到严重破坏，不仅会导致元件不同位置上的光谱曲线......
研究了公-自转磁控溅射镀膜系统的机理。通过物理建模，使用交点采集和时间步长划分两种模型，分别计算模拟了矩形靶沉积时间的三维分......
讨论了深紫外曝光系统中椭球反射镜镀制装置在薄膜沉积中的镀制条件对膜厚和膜厚均匀性的影响，计算了椭球镜的膜厚均匀性并对如何改......
本文主要介绍了通过采用S-RRC(SUPPER REDUCED RESIST CONSUMPTION)技术来进行光刻胶膜厚均匀性的调整，从而降低光刻涂胶中光刻胶的......
本文采用离子束溅射方法制备 GdF3薄膜，并研究其沉积速率分布特征。首先，采用膜厚仪测量得出 GdF3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分......
本文提出了一种提高溅射镀膜膜厚均匀性的方法。通过计算得到对于多晶和非晶材料制成的阴极靶在强电场气体离子轰击下,若在靶中央......
针对大口径光学元件溅射沉积膜厚不均匀的问题,采用离子束溅射平坦化层来改善光学元件表面粗糙度.利用膜厚检测仪测出光学元件沉积......
介绍了FBAR用复合氮化铝（AlN）压电薄膜的制作方法。采用双S枪中频（40kHz）磁控反应性溅射铝靶制作出了AlN压电薄膜。采用双S枪直流（DC）磁......
研制了一台永磁ECR等离子体化学气相沉积系统.通过同轴开口电介质空腔产生表面波,利用高磁能积Nd-Fe-B磁钢块的合理分布形成高强磁......
利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具，旋转球面夹具，行星旋转球面 夹具的膜厚均匀性，分析了均匀的影响因素，指出了工艺中的调整方法。......
讨论了影响电子束蒸发镀膜厚度均均匀性的因素,提出了一种确定膜料蒸发特性的方法。并针对平面旋转夹具分析了夹具高度以及蒸发源......
随着镀膜技术的发展,镀制由多种元素成分组成的复合膜系已经被广泛采用,并且有越来越多的发展趋势。因为由多种元素成分组成的复合......
针对半球面大口径球形光学元件的膜层均匀性进行了理论分析研究。通过建立半球形基底内表面的数学模型,运用膜厚理论公式表达出内......
大口径主镜是大型光学系统的核心元件,如大型天文望远镜,其空间分辨率和聚光能力主要与主镜直径密切相关。随着科学研究发展的需要......
