光学薄膜厚度均匀性对于光学薄膜制备而言是很关键的一个因素，膜厚均匀性不仅决定了光学薄膜制备量产的数量，而且对薄膜的光学性能有重要影响，特别是对于膜厚均匀性要求极为严格的DWDM(密集型波分复用)极窄带干涉滤光膜等超多层、高精度的光学薄膜，以及渐变滤光片等对膜厚分布有特殊要求的光学薄膜。光学薄膜界的前辈们早已认识到膜厚均匀性的重要性，并深入研究了各种条件下的膜厚理论分布情况，对本文进行膜厚均匀性的研究分析提供了有力的理论支持。 本文对膜厚均匀性的研究主要针对平面工件盘结构，重点研究了影响膜厚分布最重要的两个因素：蒸发源的蒸发特性和蒸镀系统的几何配置。首先利用数学积分法建立一系列的数学模型来模拟分析了点蒸发源、面蒸发源等不同蒸发特性时的膜厚分布；并同样利用积分建模法来模拟分析平面工件盘、旋转平面工件盘和行星式平面工件盘的膜厚分布情况；然后利用数学计算软件(№thCAD)和行星式平面工件盘的膜厚分布公式计算分析了HVC800DA型镀膜机的理论膜厚均匀性；最后通过蒸镀TaO5和SiO2两种材料来测试分析HVC800DA型镀膜机实际的膜厚均匀性。 理论研究表明当蒸镀系统的几何配置一定时，平面工件盘结构的膜厚分布与基片所处的位置有关，即工件盘边缘膜厚要薄于工件盘中心，而最后的实验测试结果也证明了这一点。当然修正板对膜厚均匀性的修正效果也是非常明显的，实验测试结果同时也证明了装备了修正板的HVC800DA型镀膜具有良好的膜厚均匀性。