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讨论了影响电子束蒸发镀膜厚度均均匀性的因素,提出了一种确定膜料蒸发特性的方法。并针对平面旋转夹具分析了夹具高度以及蒸发源与真空室中心轴距离对光学薄膜厚度均匀性的影响。引进了修正挡板函数,提出了一种设计修正挡板的方式来解决光学薄膜厚度均匀性问题。
电子束蒸发镀膜膜厚均匀性研究
【摘 要】
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讨论了影响电子束蒸发镀膜厚度均均匀性的因素,提出了一种确定膜料蒸发特性的方法。并针对平面旋转夹具分析了夹具高度以及蒸发源与真空室中心轴距离对光学薄膜厚度均匀性的
【机 构】
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中科院上海光学精密机械研究所; 山东省科学院能源所;
【发表日期】
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2005年期
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