磁控溅射靶相关论文
磁控溅射是目前众多真空镀膜技术中具有显著优势的方法之一,与其他镀膜方式相比,这种技术在保证成膜质量的同时,可以有效提高沉积......
磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术[1]、[2]、[3],目前已经在科研和生产中实际应用。磁控溅射与一般溅射相比,具有高......
通过在基片上直接放置一块永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响.实验发现,外加磁场的引入改变了靶表面附近的磁场分布......
类似于矩形平面溅射靶的磁场和旋转式圆柱形的靶筒组成旋转式圆柱形磁控溅射靶。与常规的圆柱形磁控溅射靶相比较，该旋转式靶提高了......
溅射镀膜作为薄膜混合集成电路的重要环节,在厂商要求保证工艺质量的前提下,希望提高设备的自动化程度,减少靶间污染。介绍了一种......
本文介绍了一种新的ＪＧＰ－６００型磁控溅射沉积薄膜装置。该装置采用射频和直流兼容的磁控溅射靶，靶－基距可以在工作时调节，ＫＡＵＦＭＡＮ源离子束清洗，涡轮分子......
磁控溅射靶面磁感应强度的水平分布直接关系到靶材的利用率和刻蚀的均匀性。为了寻求更好的磁控靶结构参数,从而实现靶面水平磁感......
平面磁控溅射靶面水平磁感应强度对靶材刻蚀均匀性及其利用率等有着重要作用。为了提高靶面水平磁感应强度均匀性,在传统磁控溅射......
<正>事业部以航天用粉末冶金材料的研制生产技术为依托,利用军用产品的研究成果和技术优势,开展高纯高性能溅射靶材的研发和生产工......
在真空镀膜中,磁控溅射以溅射温度低、沉积速率高的特点广泛应用于各种薄膜制造中,在科研领域以及工业生产中发挥着不可替代的作用......
Ｎｉ－Ｖ合金靶材无磁性。该合金由真空熔炼制成，压力加工后晶粒得以细化。靶材的尺寸为Φ２２５×１２．７ｍｍ及２７６×１３６×９ｍｍ。合金的纯度为９９．７％。磁性材料镍中添加钒有利......
