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本文采用离子束溅射方法制备 GdF3薄膜，并研究其沉积速率分布特征。首先，采用膜厚仪测量得出 GdF3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分布图，通过拟合模型得到二维沉积速率分布公式。其次，分析了束流束压及靶材角度对沉积速率分布特征的影响。最后，以二维沉积速率分布公式为基础，通过计算机编程设计均匀性挡板，并进行膜厚均匀性实验验证。结果表明，沉积速率在水平方向上满足 ECS 函数分布，在竖直方向上满足标准 Gauss 分布，拟合公式残差为2．05×10^-6。改变离子源的束流和束压，沉积速率分布特征保持