蒸发源相关论文
目的 提高新疆天文台南山观测基地ZZS1800-1/G真空镀膜机的膜厚均匀性指标。方法 通过建立旋转行星夹具系统的膜厚分布模型，利用高......
根据行星夹具的膜厚理论模型, 对半球透镜表面的膜厚分布进行理论分析研究。推算半球面上典型点的膜厚公式, 用代 入法对不同情况......
光学薄膜厚度均匀性对于光学薄膜制备而言是很关键的一个因素，膜厚均匀性不仅决定了光学薄膜制备量产的数量，而且对薄膜的光学性能有......
通过对软金属Sn材料制备薄膜的研究,从而在工业生产中摸索出一些经验和工艺过程,最终在实际生产中取得很好的经济效益。
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用热蒸发法为MOTOROLA中国电子有限公司手持电话外壳表面沉积了具有一定金属光泽的Sn电介质绝缘薄膜,论述了在真空度参数一定时,薄......
应用真空镀膜技术制作出的爆炸网络其密度比较均匀，膜层的厚度比较容易控制；选择适当的工艺参数，能够制得精度很高的小尺寸产品；蒸发源......
一、主要技术内容rn真空镀SiOx高阴透薄膜是中包云梦塑料薄膜厂 以等离子体化学气相淀积技术为基础,利用激光电子束枪加热,将SiOx......
对用低价硫化铝的歧化反应进行钢基镀膜作了定性研究. 用两种蒸发源(2Al2O3+6C+Al2S3)和(4Al+Al2S3)分别进行反应蒸发镀膜, 系统真......
本文依据L.Holland的膜厚公式和I.A.Neil的关手光学元件表面的数学表达式讨论了热蒸镀形镀膜机的膜厚均匀性,计算了平面、球面。高......
为解决透射式Cs2Te光阴极厚度不均匀问题，通过理论和实验研究，分析了产生此问题的机理及其影响因素。这些因素包括：蒸发源发生器形状......
采用真空气相沉积法,使用两种蒸发源制备纳米ZnO薄膜.用XRD(X射线衍射)进行测试并进行其结构特性分析.研究发现,蒸发源为分析纯Zn......
本文详细地阐述了喷镀铝箔用镀膜设备的类型及特点,并分析了喷镀材蒸发源类型及适用范围.......
本文介绍了自主研发的磁偏转电子束蒸发源,主要构造有电子束发射及偏转组件、水冷组件和坩埚换位组件等,设备集成在6英寸的超高真......
从设备总体，卷绕系统，真空系统，蒸发源系统和电气控制系统等方面介绍国外主要的高真空卷绕镀膜设备制造公司ＬＳ、ＧＶＥ、ＧＶＴ和ＵＬＶＡＣ的包装装饰用设备发......
本文在研究了阴极弧斑运动规律的基础上，发展了多功能受控电弧蒸发源，它可在自由电弧状态下运行，而在２００～２５０Ａ高参数运行时，可使阴极弧斑覆盖几......
分析了几种可能的实际蒸发源与薄膜均匀性的关系,其中包括扩展的平面蒸发源和曲面蒸发源。通过实验论证了薄膜均匀性对蒸发源尺寸......
作为真空镀膜的关键装备之一，分子束外延蒸发源对于镀膜效果具有极其重要的影响。为了获得优质性能的薄膜，需要性能良好的蒸发源。国......
近几年来,新型的有机功能材料,由于具有传统的无机材料相似的性能而得到业界的广泛关注。无机材料根据性质的不同,在制备相应的薄......
蒸发源是真空镀膜装置中一个非常重要的部件。在多个蒸发源共存的装置中,如何在设计中正确选择蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间......
多弧离子镀技术近年来发展极为迅速，已生产出多种类型的多弧离子镀设备并已投产使用。设备中阴极电弧蒸发源工作性能的好坏直接影响......
