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期刊论文
热蒸镀镀膜机膜厚均匀性问题
热蒸镀镀膜机膜厚均匀性问题
来源 :云南师范大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qjbfg123
【摘 要】
:
本文依据L.Holland的膜厚公式和I.A.Neil的关手光学元件表面的数学表达式讨论了热蒸镀形镀膜机的膜厚均匀性,计算了平面、球面。高次曲面载盘的膜厚分布。关于载盘形状得出了
【作 者】
:
唐怡
魏明逊
【机 构】
:
云南师大物理系,云南师大物理系
【出 处】
:
云南师范大学学报:自然科学版
【发表日期】
:
1992年1期
【关键词】
:
热蒸镀
镀膜
膜厚均匀性
蒸发源
evaparting source cassying plate uniformity of film thickness
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本文依据L.Holland的膜厚公式和I.A.Neil的关手光学元件表面的数学表达式讨论了热蒸镀形镀膜机的膜厚均匀性,计算了平面、球面。高次曲面载盘的膜厚分布。关于载盘形状得出了一些有意义的结论。并特别地计算了DM450C镀膜机的膜厚均匀性。
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