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本文主要介绍了通过采用S-RRC(SUPPER REDUCED RESIST CONSUMPTION)技术来进行光刻胶膜厚均匀性的调整，从而降低光刻涂胶中光刻胶的使用量，最终达到降低光刻成本目的。
S—RRC中膜厚均一性的实现
【摘 要】
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本文主要介绍了通过采用S-RRC(SUPPER REDUCED RESIST CONSUMPTION)技术来进行光刻胶膜厚均匀性的调整，从而降低光刻涂胶中光刻胶的使用量，最终达到降低光刻成本目的。
【机 构】
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上海华虹NEC电子有限公司,朗讯科技（中国）有限公司上海办事处
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2005年1期
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