掩模板相关论文
阐述数字微镜技术，基于数字微镜器件的光刻机特性，包括降低掩模成本、减小曝光关键尺寸CD，探讨基于数字微镜器件的光刻机技术应用。......
微减速器与微马达相配,可以提高微马达的输出力矩,拓展微马达的应用场合.本文介绍了用LiGA技术制造模数0.03微齿轮,并用显微装配技......
极紫外光刻中掩模板热变形是不可忽略的.本文采用有限元方法,针对工业化生产条件(80wafer-per-hour)计算掩模板热变形.抗蚀剂感光......
用传输矩阵法从理论上计算了取样光纤布拉格光栅的反射谱特性，提出了几种最高其谱特性的调制方案。用取样掩模版一次成栅的方法首次......
介绍一种在分步投影光刻机中，采用不等栅距光栅进行对准的系统。详细介绍了该系统的光学原理、所采用对准目标的刻线形式、空间滤波......
基于标量衍射理论，二元光学器件的衍射效率，微结构误差对衍射效率的影响，提出了一种准连续编码方法，并给出了加工非２ｎ台阶所需掩模板的具......
随着光纤光栅在光纤通信领域中应用范围的扩大，人们对它的要求也越来越高。许多应用场合要求光纤光栅能耐高温高压，且性能长期稳定。......
用传输矩阵法从理论上计算了取样光纤布拉格光栅的反射（传输）谱特性，提出了几种提高其谱特性的调制方案。用取样掩模版一次成栅的方法......
光纤光栅就是纤芯折射率的空间周期分布,它能够实现频域的滤波特性。利用光纤光栅的这一特性,可构成许多性能独特的光纤无源器件,......
论文通过将啁啾光纤光栅实延时技术与传统实延时技术进行分析比较,指出了前者具有控制元件少、连续可调谐的优点,并进一步介绍了一......
为了提高温度补偿封装的可靠性,改进了光栅制备结构,使光栅在一定的预拉条件下,光栅中心反射波长能在应用要求的规定值内小范围浮......
提出了一种利用均匀相位掩模板制作啁啾光纤光栅(FBG)的方法。在对光纤的扫描曝光过程中,相位掩模板沿长度方向周期性抖动,且抖动......
为了检测光刻机掩模板或玻璃基板表面的杂质颗粒,结合米氏散射理论与暗场检测原理,通过杂质颗粒在固定空间角的散射光能量来标定颗......
太赫兹波通常是指频率范围在0.1THz-10THz内的电磁波,在光谱中介于微波频段和红外频段之间,具有相干性、低能性、穿透性、指纹特性......
一九七二年美国麻省理工学院(MIT)发表了X线曝光技术的研究成果。从此,作为以超大规模集成电路等为对象的超精密加工技术的一环引......
1.绪言在集成电路和大规模集成电路的生产工序上,需要测量圆片和掩模板上形成的微细图形的尺寸。一方面需要判断这种测量值与设计......
双球面反射成象系统用于大规模集成电路生产中的硅片光刻和掩模复印有广阔的前景。本文提出用球形高压汞灯代替弧形汞灯作为曝光光......
本文根据多年来的实验结果和工作经验,探讨在研制投影光刻精细线条的照明系统中,解决关于大照明面积、高照明均匀性、高象面照度及......
本文从瑞利一索末菲衍射公式出发,对接近式光刻机曝光系统进行理论分析和计算,得出其光学性能参数。同时给出依据这些参数所设计的......
ＩＧＡ技术是纳米微米制造技术中，最有前途，最有生命力的方法，最近几年发展较快。本文对ＬＩＧＡ微制造技术做了较全面的介绍，并对光源、光刻胶、电铸......
近两年内,我们研制了一台“无油超高真空多层镀膜设备”。用在超导隧道效应研究中,制备薄膜隧道结试样,此外,它也适用于其它薄膜试......
按照高斯型渐变反射率镜(GRM)的参数要求,采用了中间层厚度渐变的方案对膜系和掩模板形状进行设计.根据薄膜的实际需求和具体的沉......
本文提出一种用一块单极性掩模板表示双极性互连矩阵的偏振编码方法。并用二种非相干光电混合系统分别实现了二阶互连神经网络。最......
概述了国内外长周期光纤光栅的制作方法、长周期光纤光栅温度应力特性和在通信、传感领域内的广泛应用，并且对各种制备工艺进行了比......
本文根据远场均方根宽度表示的单模光纤模场直径定义,设计及制作了掩模板,导出了模场直径的测量计算公式。并对测量中可能引入的系......
松下电子工业公司开发出了MN59000系列的CMOS门阵列电路,该电路在固定的第一层铝上作第二层铝布线,周期短。为保证优先用于该系列......
7 投影曝光在平板荫罩及一般的集成电路的光刻工艺中,大都采用接触曝光法,即将掩模板直接放在基板的光致抗蚀剂涂层之上,为了保证......
本文对直接从高温石墨室的稳定金属等离子体放电中,引出高束流密度的宽束离子源的设计特点和初步试验进行了介绍。金属蒸气是通过......
本文结合设计开发的磁盘预光刻伺服录写装置，详细分析了刻录头聚焦检测光路，建立并研究了检测信号模型，指出可通过适当选取参数，获得较......
激光刻印是一种新兴的刻印方法，本文概要地叙述了激光刻印的优越性，应用领域，刻印机理。并介绍了我们最近研制成的一种“掩模式ＹＡＧ激光刻......
GEM膜理想的直径为70μm与间距为140μm。通过合作渠道获得了一些美国生产的GEM原膜的样品,可同CERN的原膜样品做比较。很多PCB技......
本文根据标量波动方程,导出了色散公式及波导色散和模场直径间的关系。对掩模法进行了公式推导及相关参数的分析确定,并对掩模法所......
该文着重分析讨论了在光ＣＤＭＡ技术中，利用光栅进行脉冲展宽的理论依据，计算了合适的光栅频率范围，并初步设计了利用光栅和掩模板产生地址码......
分析了体全息存储系统输入器件(空间光调制器)与输出器件(电荷耦合器件)空间相对位置对信号匹配效果的影响,总结了信号输入、输出......
提出一种误差预补偿的方法,调整引起的掩模特征形状以实现光罩图形的轮廓调制,通过数据前期的预补偿,减少失真,从而改善微细直角的......
采用同步辐射进行深度X射线光刻是LIGA工艺的关键工序 ,它包括LIGA掩模板的制备、光刻胶的涂制与深度X射线光刻等多个工艺环节 ,该......
借助基于4F成像系统的掩模版模拟SLM实验,在国内首次实现1000×1000高分辨率数据页输入-输出像素一对一匹配的基础上研究了体全息......
日前，上海宏力半导体制造有限公司宣布推出8英寸90纳米低漏电逻辑与混合信号平台。宏力半导体的90纳米平台为客户提供了更经济的8英......
在分析四象限光电探测器工作原理的基础上，提出了一种利用2个四象限光电探测器实现掩模板对准的新方法。激光器与四象限探测器位置......
采用同步辐射进行深度Ｘ射线光刻是ＬＩＧＡ工艺的关键工序，它包括ＬＩＧＡ掩模板的制备、光刻胶的涂制与深度Ｘ射线光刻等多个工艺环节，该技术在深度比要......
