工件台相关论文
前馈控制器是光刻机工件台在高加减速工况下实现纳米级运动精度的关键环节。该文针对传统情况下四阶前馈拟合逆模型能力较差、难以......
光刻机系统中，工件台控制系统作为重要的子系统之一，完成工件台的控制和硅片的曝光过程控制。位于测量区的工件台需要与上下片系统、......
工件台是TFT阵列基板长寸测量设备中最为核心的技术单元之一,其定位精度将直接决定最终长寸测量设备的测量精度.在运动过程中由于......
拟实制造技术具有以下4个基本特征：沉浸性、交互性、多感知性、自主性，使用者与虚拟环境中的各种对象的相互作用，让使用者有一种身临......
在分析超精密工件台运动特点的基础上，提出了一种基于多轴双频激光干涉仪的激光测量系统，搭建测量系统平台并建立了测量模型；这种测量......
由于电子束曝光机采用的修正技术,工件台的测量系统显得十分重要.介绍了电子束曝光机激光定位精密工件台的工作原理,其测量系统首......
聚焦离子柬技术（FIB）是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。几十年来，随着......
为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导，解决光刻机工件台宏动定位平台的设计和控制问题．根据工业应用中步进扫描光刻机的运动特......
光刻机工件台的小型重力补偿器是光刻技术中关于硅片调焦调平的关键技术，其性能直接影响机器焦深误差。针对一种主动小型重力补偿器......
为提高步进扫描光刻机工件台控制系统的带宽,采用双输入单输出的粗精控制结构。精动机构实现高精度高响应速度的小行程运动,粗动机......
通常,在半导体设备刚性结构设计中要求零部件有很高的加工制造精度和装配精度,同时易传递振动、热等,并容易引入附加的力和转矩。......
超精密气浮工件台系统是当前主流光刻机中的核心子系统,要求具有纳米级的重复定位精度和同步运动精度。这种系统所采用的气浮轴承......
介绍了nm级电子束曝光机激光定位精密工件台系统的结构组成、各部分技术措施及总体性能指标。该工件台采用HP5527激光干涉测量系统......
设计了一种铆钉切割器,可实现大批量、多种类铆钉的自动化同步切割。本机械装置适用于半圆头、90度沉头、100度沉头、120度沉头等......
为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机工作台宏动平台的控制问题,建立了步进扫描光刻机模拟减振试验平台宏动定位......
光刻技术的进步是推动半导体产品向大容量低成本方向发展的关键。随着集成电路的特征尺寸逐渐减小、集成度逐渐增加,对光刻机性能......
提出一种光栅反射对准法:在极坐标激光直写系统中利用光栅反射聚焦光斑来校准光轴和工件台的转动轴;被光栅反射的聚焦光斑成像在CC......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
<正> 1、引言 上一讲已经说明了组成电子光学镜筒的若干部件的特性。这个电子光学分系统加上样品工件台,电子束控制电路,计算机和......
在超精密加工中,大行程驱动与高精度进给是难以解决的矛盾,也是多坐标超精密加工的难点。文中以建成较大尺度三维结构的制造系统原......
光刻机工件台在扫描曝光过程中要求纳米级的定位精度，采用长行程直线电机粗动加洛仑兹电机高精密微动补偿的6自由度复合运动系统能......
着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。......
针对步进扫描投影型光刻机超精密工件台开展研究熏所搭建的超精密气浮运动试验台采用气浮直线导轨支撑、直线电机驱动、直线光栅尺......
<正> 专利是一种很重要的技术资料,目前全世界每年公布的专利说明书约100万件。为了达到垄断目的,各国对新产品,新方法的每个方面,......
多自由度精密运动台是集成电路设备、精密加工机床等的关键部件,具有速度大、精度高的特性,其运动精度直接影响整机的性能,因此多......
光刻技术是极大规模集成电路制造流程中的重要环节，其中套刻精度是光刻机的主要性能指标，在当前光刻机发展的背景下，工件台技术在提高......
步进扫描投影式光刻机作为当今世界高精尖的IC制造设备，其研究发展关乎国计民生。平衡质量系统作为光刻机双工件台的重要组成部分，可......
在极紫外光刻系统中,真空工件台的运行精度、速度、加速度以及动态定位和扫描同步性能是影响整机成像质量、套刻精度和产率的重要......
光刻机的工件台和掩模台采用长行程直线电机宏动跟随平面电机高精密微动的复合运动方式，实现系统高动态纳米级精度的跟踪定位．为减小......
为提高光刻机工件台的跟踪精度和响应速度,采用了以直线电机和音圈电机为执行器的宏微控制结构。微动台完成高精度小行程运动,宏动......
阐述了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的功能与构成,并通过对国内外100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的技术现状的......
随着科学技术的发展,人类在制造领域中采用的尺度将由微米迈向纳米。超精密加工技术将是未来十到二十年内制造领域中最重要的进展......
光刻机是现在生产集成电路所用的最主要的专用设备,其采用一种光腐蚀技术将所需要的电子元器件刻在半导体硅片上。集成电路随着计......
工件台系统是极紫外光刻(EUV)的一个关键子系统。极紫外光刻机采用步进扫描曝光方式,成像质量不仅取决于光学系统的质量,还取决于......
集成电路产业是现代信息产业的基础,是改造和提升传统产业的核心技术。随着微细加工技术的进步,集成电路的特征线宽进入到深亚微米......
光刻机工件台是光刻机的关键子系统,其中的线管组件是其传输信号、动力及冷却液等必不可少的组成部分。线管组件产生的扰动力会恶......
根据所设计光刻机工件台的定位精度要求,选取Renishaw RGH25F直线位移测量光栅作为其位置检测传感器,在此基础上完成了面向TMS320L......
主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工件台结构以及对准标记的形式和尺寸的选择
Mainly discusses the alignment of the bott......
提出一种将完全跟踪控制（PTC）和扩张状态观测器（ESO）相结合的复合控制方法以提高宏动直线电机的跟踪性能。利用多速率采样系统的特性构......
