全息光刻相关论文
作为X射线波段的一种重要色散元件,金透射光栅主要用于激光惯性约束核聚变（ICF）实验中的等离子体诊断,以及X射线天体物理研究的高能......
由于在超高密度磁存储技术、磁阻传感器、磁随机存储器等诸多方面有着广泛的应用前景,微米、纳米磁性单元阵列最近吸引了越来越多......
在光栅的制作中有两种方法:一个是湿法,另一个是干法.由于DBF激光器的光栅用湿法腐蚀的方法有很多缺点,我们就采用了干法腐蚀在InP......
作为一种新型的透射光栅,闪耀透射光栅集中了透射和反射光栅的优点,同时避免它们的缺点,衍射效率可高达50％.本文采用全息光刻和湿法......
介绍了数字编码光栅尺的结构设计并提出一种制作方法.采用紫外对准光刻、全息光刻及湿法腐蚀结合在(100)硅片上制作母光栅尺, 并以......
基于严格耦合波分析,研究凸面闪耀光栅的衍射特性;采用全息光刻-离子束刻蚀法制作中心周期为2.45μm、曲率半径为51.64 mm、口径为......
凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小，制作工艺难度大，其衍射效率与理论值有......
国家同步辐射实验室新建了覆盖5~40 eV的低能区高分辨率角分辨光电子能谱光束线。其球面光栅单色仪包含了三块光栅，即300，600和1200 ......
光子晶体、量子光学、超快光学与微纳光学的发展,使得操控光子的发射与传输特性成为可能。综述了具有复折射率周期性调制的共振吸......
采用全息光刻和二次显影的方法制备了柱形二维光子晶体.在此过程中,二维点状的周期结构首先在正性光刻胶上直接形成,然后经由Si3N4......
基于Ga As衬底采用全息光刻和湿法刻蚀技术制备周期孔阵图形。得出全息光刻双曝光最优曝光时间为60 s。采用H3PO4∶H202∶H2O=1∶1......
实验优化设计了808 nm分布反馈(DFB)半导体激光器的二级布拉格光栅结构,介绍了808 nm DFB半导体激光器光栅制备的工艺过程。采用全......
论文所阐述的控制软件是在DMD光刻系统硬件平台的基础上进行设计-全息图像光刻软件，通过对原始图像预先数据定义，再按色分层处理......
◆摘 要：本文對全息光刻技术进行简单介绍，并对影响全息光刻图形质量的印象因素进行了分析。 ◆关键词：全息光刻;影响;分辨率;图形......
导模共振效应是波导所支持的导模(泄漏模)受到光栅衍射级次的激发，引起衍射光能量的重新分配，使光场相对于入射角或波长等物理量的微......
在过去的20年中,光子晶体被应用于许多光子学领域诸如低阈值激光器,低损耗光波导,片上集成光路和光纤系统。光子晶体的应用需要解......
全息离子束刻蚀衍射光栅是通过全息光刻制作出光刻胶光栅掩模和离子束刻蚀将其转移到光栅基底上而制成,它集中了机械刻蚀光栅的高......
在信息光子学的发展过程中,微纳光子结构因其独特的光波调控特性,已经成为当今国内外研究的热点,在物理、材料等众多领域引起了广......
10 Gb/s或者更高传输速率光纤通信系统在局域网和城域网中正变得越来越重要.高速DFB激光器是高速光通信网的关键部件.他们在基于WD......
本论文利用超高真空化学气相沉积(UHV-CVD)设备，系统地研究了外延生长条件对Si基Ge量子点特性的影响。以自组装S-K(Stranski-Krasta......
在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息-离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中,并成功地为国家同步......
金透射光栅广泛用于真空紫外、X射线、物质波的衍射和光谱测量.分别介绍了美国麻省理工学院空间微结构实验室和中国科学技术大学国......
采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺,在熔石英基片上成功地刻蚀出200 l /mm、线空比4:6、槽深70 nm、刻划面积60×20......
激光干涉制作亚微米尺寸磁性周期结构中,基底材料具有高反射率,由于垂直驻波的影响,光刻胶浮雕图形侧壁产生"束腰",本文将O2反应离......
在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上，首次将光刻胶灰化工艺引入到全息－离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中，并成功地为国家同步辐射......
设计搭建了一套基于DMD（Digital Micro-mirror Derice）的全息光刻系统,它包括光路和软件部分。在软件设计中,采用MATLAB语言编制基于......
本文概述了光刻技术的广泛应用并探讨其今后的发展方向,分析比较了几种常见立体光刻技术的优缺点,重点介绍了全息光刻技术在制备光......
介绍了全内反射全息光刻技术的发展情况，基本原理以及其中的关键技术。...
在简述软X射线自支撑透射光栅制作工艺的基础上,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺.紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成......
美国伊利诺伊大学厄巴纳一香槟分校的研究人员将3D全息光刻与2D光刻技术相结合，开发出一种适用于大规模集成电路的高性能3D微电池。......
介绍了一种新型的光刻系统-全内反射全息光刻系统.着重讨论了设计该系统时的几个重要因素,给出了用该系统开展的实验研究结果.......
使用矩阵转换方法，对全息光刻中全息掩模衍射效率进行了数值模拟计算，讨论了记录介质显影前后特性的改变和再现时全息掩模复位精度对......
激光干涉制作亚微米尺寸磁性周期结构中，基底材料具有高反射率，由于垂直驻波的影响，光刻胶浮雕图形侧壁产生“束腰”，本文将O2反应离子......
针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1 m Seya-Namioka 单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200 lp/mm Lami......
介绍了数字编码光栅尺的结构设计并提出一种制作方法.采用紫外对准光刻、全息光刻及湿法腐蚀结合在（100）硅片上制作母光栅尺,并以具......
通过结合3D全息光刻和2D光刻技术，美国伊利诺伊大学厄巴纳一香槟分校的科学家日前开发出一种适用于大规模集成电路的高性能3D微电池......
全息光刻-反应离子束刻蚀是一种非常重要的制作光栅的方法,而如何解决全息曝光中的驻波问题,提高光栅的制作质量,实现该方法向硅材......
全息光栅是一种广泛应用于光谱仪器的分光器件,也是光谱仪器的核心器件,光栅的种类很多,本文优化了基于金属掩模的全息微型纳米光......
亚波长光栅独特的衍射特性使其被广泛应用于各种光学系统中。尤其近年来,亚波长光栅在垂直腔面发射激光器（VCSEL）中的应用日益受到关......
采用全息光刻和二次显影的方法制备了柱形二维光子晶体.在此过程中,二维点状的周期结构首先在正性光刻胶上直接形成,然后经由Si3N4......
在光栅的制作中有两种方法:其中一个是湿法,另外一个是干法。本文分别就湿法和干法的实验结果,进行比较。用于法刻蚀方法做出了比......
成功制备出室温激射波长为2μm的GaSb基侧向耦合分布反馈量子阱激光器.采用全息曝光及电感耦合等离子体刻蚀技术制备二阶布拉格光......
