X射线光刻相关论文
微纳光学结构制备技术一直是微纳光子学器件发展的技术瓶颈。针对微纳光学结构制备技术向小尺寸、高精度和广泛应用发展的趋势,报......
纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心 .纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一 ,其制作技术是整个纳米技术的核心基......
介绍了利用电子束和 X射线束双曝光技术制作大高宽比高分辨率的 X射线聚焦或色散元件的新方法 (波长范围为 1～ 5 nm )。所制做的厚......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
x射线光刻非常适合用于深亚微米T形栅的制作,这是因为它的高分辨率、大的曝光视场和高的生产效率足以满足MMIC制造工艺的要求。本......
介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件--XLSS 1.0.该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结......
金透射光栅广泛用于真空紫外、X射线、物质波的衍射和光谱测量.分别介绍了美国麻省理工学院空间微结构实验室和中国科学技术大学国......
光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术 ,X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种 ,具有产业化的应用前景。掩模技术......
X射线光刻掩模是下一代光刻技术(NGL)中的X射线光刻技术的关键技术难点。在电子束直写后的掩模后烘过程中，掩模表面的温度场分布及......
介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理，对其关键部分(精密调整台、微位移控制、对准光学系统等)做了详细阐述，并进行了系统的精......
针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证.采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的......
提供了采用电子束光刻、X射线光刻和金属剥离技术制作亚微米尺寸的声表面波叉指换能器的方法。首先利用电子束光刻和微电镀技术制......
为了制备高线密度X射线透射光栅掩模，分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响；利用几何校正技术和低灵敏度的950k的PMMA......
介绍了单级衍射光栅的应用背景及其基本理论,分析了单级衍射光栅与传统黑白透射光栅的不同之处.阐述了单级衍射光栅的制作技术,分......
对以SiNx为衬基的X射线光刻掩模在背面刻蚀过程中的形变进行数值仿真,研究了Si片和衬基的各种参数对掩模最大平面内形变和非平面形......
用束衍生法研究了深亚微米同步辐射x射线光刻中掩模吸收体的光导波效应,并对x射线光刻后的光刻胶剖面进行了理论计算.采用面向对象......
针对惯性约束性聚变（ICF）实验中高分辨靶源辐射成像的需要，对结合电子束光刻和X射线光刻制作大高宽比菲涅尔波带片的制作工艺进行了研......
提出了用于提高X射线光刻对准系统自动对准效率和对准精度的图像边缘增强技术,并进行了数值分析。采用先单个再整体的分析方法,通......
近三十年来集成电路的特征尺寸不断缩小，主我刻技术稳定发展而推动的。按美国半导体工业协会的推测，在以后的一些年内，集成电路的特征......
介绍了248nm,193nm,1 57nm准分子激光投影光刻的发展过程和下一代光刻技术(NGL)的实用化前景....
提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）微针的微细加工工艺，该工艺基于PCT技术，结合x射线以及光刻掩模制作三维微结构。通过移动LIGA掩模板......
利用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术，成功制作了面积为1mm×1mm，周期为300nm，金吸收体厚度为1um的用于X射线显微成像的透射光......
针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先......
X射线由于其短波长和极强的穿透能力自从被发现以来,逐渐受到全球不同领域科学家们的重视。现在X射线已经成为各领域科学研究中不......
本文首先介绍了最近文献发表的一些基本微光学元件，微透镜阵列、微镜、光开关、光栅的最新应用、制备方法，其中重点介绍了亚波长光栅......
X射线波长短、穿透深度大,不仅具有对厚样品进行纳米分辨成像的潜力,而且成像机制多样(如吸收、位相、荧光等),衬度来源丰富,因而......
X射线是自从1895年被伦琴发现以来,就逐渐受到全球科学家们的重视,现在已经发展成为科学研究中一种必不可少的研究工具,在能源、医......
结合对1996年第17届国际光学学会会议的简介，评述了光学光刻和X射线光刻技术的发展概况。对一些相关技术，如激光等离子体X射线源、掩......
相对于软X射线显微成像,硬X射线显微成像对菲涅尔波带片的吸收体厚度提出了更高的要求。采用电子束光刻和X射线光刻复制的方法,在......
同步辐射光刻的三维聚甲基丙烯酸甲酯（Polymethyl Methacrylate，PMMA）微结构制造对X射线光刻掩膜板的吸收体形状和PMMA所吸收的X射线......
介绍了2种基于特殊X射线光刻技术的空心微针制备方法.一种为基于2次不同X射线光刻技术的制备方法,即第1次为通常意义的带掩膜板光......
采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X......
X射线是自伦琴发现以来,就逐渐受到全球的重视,现在已经发展成科学研究中必不可少的研究工具。而X射线衍射元件是X射线光学中重要......
