纳米光刻相关论文
韩国浦项科技大学（POSTTECH）的研究人员研制出一种超过衍射极限的新型自组装纳米透镜。这款透镜由杯状有机分子构成，分辨率可以达到20......
纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心 .纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一 ,其制作技术是整个纳米技术的核心基......
采用有损耗介质和色散介质的二维时域有限差分方法,数值模拟了以光波长514.5 nm的p偏振基模高斯光束为入射光源,激发Kretschmann型......
本文阐述了光刻技术及其光刻胶的发展过程，并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的分子结构进行了综述，特别对文献......
具有角度限制的电子束缩小投影曝光技术可能是21世纪纳米光刻最有前途的光刻技术之一.我们利用透射电镜(TEM)将它的放大投影镜改为......
在信号传输、处理与存储方面，光子学的出现有效地解决了处理速度与能耗的问题，但是集成工艺仍是一亟需解决的问题。目前电子元器件与......
随着大规模集成电路的不断发展，纳米量级器件的制作对纳米光刻技术的需求越来越迫切，这也大大地激发了科学家们研究新的纳米光刻技术......
美国、日本、德国等发达国家对纳米探测、纳米光刻技术十分重视，纷纷投入了大量的人力物力进行研究开发，已经取得了比较好的研究成果......
采用含硅量较高(23wt%)的新型光致抗蚀剂实现了55nm的各种特性,获得了较高的耐腐蚀性能,并降低了线条边缘粗糙度.结果还表明,这种......
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳......
重离子束轰击聚碳酸酯后,对样品进行陈化和紫外线照射敏化,在优化条件下蚀刻后得到纳米孔径核孔膜.利用电化学沉积技术在核孔膜中......
运用标量光学理论, 研究了纳米加工中的基模高斯光束轴向相干叠加光场的三维强度分布特征,导出了高斯驻波场的光强分布表达式.在此......
<正>2001040102纳米光刻技术[中]/罗先刚…//物理.-2000,29(6).-358—363,3502001040103用于高分辨大视场微光刻的全息照相技术研......
超分辨近场结构(Super-RENS)是在传统的超分辨光盘技术和近场光学的基础上发展起来的新技术.介绍了超分辨近场结构的基本原理及其......
摘 要:基于电子束直写技术在纳米尺度刻蚀的标准过程,探索适用于单晶样品的刻蚀工艺,在微米尺度上建立一套方案,给出各步骤条件参......
1引言最近几年,欧洲通过开展国家间的大型合作项目而使其微电子产业恢复了强劲的发展势头.根据Moore定律,进入纳米时代则需要在研......
Dip-pen nanolithography is a new scanning probe lithography (SPL) technique based on atomic force microscopy (AFM), and ......
为了给实际的纳米光刻对准工作提供理论研究基础，主要分析推导了莫尔条纹复振幅以及光强的空间分布规律。在理论分析的基础上通过仿......
纳米光刻对于纳米电子学的研究与发展具有非常重要的意义。分子尺寸为０．７纳米且可发生电子束诱导聚合的富勒烯（主要是Ｃ６０），可以作为电子束抗......
目前．信息技术已经进入纳米时代，其中纳米光学和光子学的发展尤为重要，例如在纳米光刻、纳米成像和纳米信息存储等信息技术中．都有很重......
本文侧重分析电子束纳光刻中的若干限制因素，包括电子光学系统中的象差、电子束与抗蚀剂的相互作用（散射与二次电子效应）、衬底条件等......
推导了基于衰减全内反射结构的表面等离子体干涉光刻磁场强度分布的解析表达式,讨论了该光刻结构的最优化条件.当激发光为325 nm激......
重离子束轰击聚碳酸酯后，对样品进行陈化和紫外线照射敏化，在优化条件下蚀刻后得到纳米孔径核孔膜，利用电化学沉积技术在核孔膜中制备......
具有角度限制的电子束投影曝光技术有可能成为21世纪最有潜力的纳米光刻技术之一。通过配备缩小投影透镜、掩模承片台、基片工作台......
针对接近式光刻中掩模硅片面内倾斜提出一种条纹相位解析方法。该方法通过2D傅里叶变换结合2D汉宁窗对于掩模硅片在面内发生的倾斜......
介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形,并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上,从而获得掩模的方法。针对掩模透光率以及对干......
目的 为发展纳米电子年及纳米电子学技术寻找有效途径。方法 对目前制造纳米电子器件的主要途径，例如基于三束的光刻加工技术、分......
随着半导体制造步入1xnm技术节点时代,光刻机中的对焦控制精度需要达到几十纳米。在纳米精度范围内,硅片上的集成电路(IC)工艺显著......
表面等离激元(Surface Plasmons,简称SPs),是入射电磁波与金属表面的自由电子共振形成的一种表面电磁模。由于其隐失场的特性,SPs......
光刻是半导体制造工艺中最为重要的步骤之一，决定了整个IC工艺的技术水平。随着半导体技术沿着ITRS继续向前发展，新的先进光刻技术也......
纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心。纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一，其制作技术是整个纳米技术的核心基础......
纳米技术是21世纪信息科学的一项关键技术，纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分，纳米光刻技术是制作纳米结构的基础，具有重要的应用......
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳......
讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模......
著名的四大计算机芯片制造商将与纽约州合作，在今后5年内出资5亿美元，联合开发下一代计算机芯片光刻技术，研究线宽只有人头发丝10万分......
采用含硅量较高（23wt％）的新型光致抗蚀剂实现了55nm的各种特性，获得了较高的耐腐蚀性能，并降低了线条边缘粗糙度。结果还表明，这种新型的......
在纳米光刻中，采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制，发生双光栅......
扫描探针显微镜技术(Scanning probe microscopy, SPM)的出现,使对表面形貌特征的研究深入到了原子尺度。这项技术已经广泛应用在......
本论文推导了柱坐标系下曲面金属-电介质多层复合结构的等效介质理论和色散方程,分析了曲面金属-电介质多层复合结构实现超分辨效......
表面等离子体激元在沿介质分界面的传播方向上衰减，在垂直界面方向上场表现为消逝场的形式，一般情况下束缚在表面的电磁波在金属中衰......
先进光学制造在惯性约束聚变、空间观测、同步辐射、纳米光刻等领域都有重大的应用需求。在这些应用领域的推动下,先进光学制造技......
本文提出和研究了利用超分辨缩小成像平板超透镜,在i线光源波长下实现纳米尺度光刻方法。为了在超分辨透镜像面位置获得高质量的光......
