薄膜沉积相关论文
随着集成电路技术的快速发展,芯片结构更加复杂,尺寸越来越小,对薄膜沉积的性能提出了更高的要求.等离子增强化学气相沉积（PECVD）与C......
期刊
随着技术节点按照摩尔定律持续降低,特征尺寸进一步缩小,后段集成工艺普遍引入低介电介质材料的多层铜互连工艺以降低Rc延迟带来的......
利用电子回旋共振-等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)技术,以氮气为等离子体气源,硅烷为前驱气体在玻璃衬底上低温沉积了氮化硅......
硅基二氧化硅阵列波导光栅是集成化波分复用光网络中的核心器件之一。对其制作工艺的研究对提高器件的性能具有重大意义。提出一种......
非晶合金薄膜性能优异,具有良好的磁学性能、表面光滑、耐腐蚀和耐疲劳,在未来纳米印刷、集成电路、电子元件、航空航天等诸多方面......
类金刚石薄膜（Diamond-like carbon，DLC）具有许多优异的性能，其中高硬度，低摩擦系数、耐磨性等使其在改善金属管内壁性能方面得到良好的......
根据薄膜沉积过程等离子体对光学薄膜膜料蒸气分子或原子的作用，建立了低压等离子体离子镀设备，并对常规光学薄膜，如硫化物、氧化物薄......
介绍了几种高密度等离子体源，重点叙述了新近出现的电感耦合等离子体源ＩＣＰＳ。说明了ＩＣＰＳ的基本原理、结构特点、电磁场分布的数学模型等。还......
液态硅源硅酸乙酯(TEOS)在700~750℃分解的LPCVD工艺,二氧化硅薄膜沉积的速率可以达到20~30nm/min,薄膜的厚度均匀性小于1﹪,这些优......
在MEMS工艺中，薄膜沉积是一种非常重要的技术。其中PECVD沉积由于其突出的优势得到了广泛的关注和研究。Level Set方法是一种追踪运......
微机电系统(Micro-Elctro-MechanicalSystems，MEMS)技术的发展使得对高性能、高厚度的锆钛酸铅(Pb(Zr0.53,Ti047)O3，PZT)压电薄膜的......
液态源金属有机物化学气相沉积(LS-MOCVD)是利用液态金属有机物为先体原料，在较低的温度下获得比其他常用的制备方法更致密、更均匀......
本文对脉冲偏压电弧离子镀(TiMe)N多元复合硬质薄膜进行了研究,选用电负性与Ti元素存在不同程度差异的过渡金属Nb、Cr、Zr作为添加......
薄膜材料不仅包含丰富的物理信息和物理理论基础,还在材料科学、电子技术、信息技术、生物技术等众多领域有着广泛的应用,是近年来......
制备高效的CdTe太阳电池，改善电池的背接触特性是一关键技术。在Ⅰ-Ⅴ曲线上可以看到所谓的roll—over现象，这主要是p型CdTe与背电极......
在基片下放置一块永磁铁,在溅射时,该外加磁场将对溅射空间的等离子体产生影响。利用这种方法,我们可以研究外加磁场对溅射粒子运......
真空电弧沉积薄膜是近年来发展起来的高技术薄膜制备方式之一,但由于宏观颗粒的存在,限制了它向更广泛应用领域的发展.针对这种现......
本硕士学位论文主要采用电化学法分别在多晶金片电极和单晶硅电极表面构建了周期表Ⅳ—ⅥA型SnSe半导体薄膜；并在导电玻璃电极表面......
为了利用磁控溅射技术制备多组元薄膜材料,并有效地调控薄膜组份,采用低频与高频组合、射频与甚高频组合驱动的双频双靶磁控溅射技......
在现代的半导体行业当中，低温等离子体技术常常被应用于基片刻蚀、薄膜生长以及表面改性等等方面。容性耦合等离子体源相对于感应耦......
介质阻挡放电(Dielectric Barrier Discharge，DBD)等离子体是大气压非平衡等离子体(冷等离子体)的一种常见形式。DBD等离子体的特点......
磁控溅射是一种重要的薄膜沉积技术。在过去几十年中,磁控溅射技术得到快速发展,特别是非平衡磁控溅射技术的发展使得磁控溅射沉积......
为了解决大面积类金刚石薄膜的均匀性,首先要研究脉冲离子源所镀制的类金刚石薄膜的厚度分布曲线。针对这一目的,做了大量工艺实验......
衍射光学元件在国防、生产及科研等领域起着越来越重要的作用。衍射光学元件的制作技术主要包括激光或电子束直写、反应离子刻蚀、......
通过大量工艺实验,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数的样品,选择了一种......
图16为以等离子体内SiH3为生长前驱物模式的硅薄膜沉积示意图.rn此模型中假设在SiH3离子落向衬底之前,表面将被H覆盖.首先SiH4在等......
采用微波等离子体化学气相沉积法 ,用高纯氮气 (99.999% )和甲烷 (99.9% )作反应气体 ,在单晶Si(10 0 )基片上沉积C3N4薄膜 .利用......
强流金属离子注入和等离子体薄膜沉积是高效率低成本的材料表面加工新技术,具有巨大的产业化前景.该技术可以大幅度直接提高材料表......
衍射光学元件在国防、生产及科研等领域起着越来越重要的作用．使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作１６阶菲涅耳透镜，应用于折衍混合ＣＣＤ相机．进......
复杂的非平面结构基板形貌对传统的薄膜沉积技术产生了极大的挑战,不同类型的集成电路器件需要不同的生产技术,同时也对薄膜材料提......
通过对商用计算流体力学软件FLUENT进行功能扩展,实现了空气流场、空间电场和离散雾场多场耦合过程的数值模拟.由实验数据确定雾滴......
应用光刻和薄膜沉积技术,制作了多级衍射光学元件.对制作误差和影响误差的因素进行了分析.给出了改善对准误差的标校方法,并在实际......
原子级薄膜形貌的成因和演变的历史可以追溯到19世纪中叶关于薄膜沉积的最早的几篇文章。研究者追踪了在低吸附原子迁移率条件下制......
主要研究镀膜光纤传感器.首先介绍了氧化锌镀膜光纤的几何结构,分析了此几何结构压电声光振荡的基本原理,给出了光纤声光相位调制......
介绍了在各种磁场作用下利用脉冲真空电弧离子源镀膜的实验现象和实验结果,在此基础上,主要分析了磁场对脉冲真空电弧离子源镀膜均......
为了研究氧流动的影响，在 TiO2 薄电影的结构、光的性质上评价，玻璃上的 TiO2 电影被反应磁控管劈啪作响扔。微观结构和光性质被 X ......
多极板赝火花（Pseudospark)放电室，在外加直流电压下，能产生自收缩纳秒强脉冲电子束和多种离子束。电子束瞬间功率密度可达10^10W/cm^......
薄膜型全固态锂电池具有完美的电极/电解质固-固界面,可以有效解决当前商用锂离子电池的安全性问题,并具有超长的循环寿命、较宽的......
本文利用六甲基二硅氧烷(HMDSO)作为硅的先驱粒子,氮或氩气为稀释气体,进行了大气压等离子体化学气相沉积类二氧化硅薄膜的实验研......
铁电钛酸锶钡材料具有十分优越的介电性能：高的介电常数，较低的介电损耗，好的绝缘漏电性能；而且，通过调节材料中的Ba／Sr成分比，可改变材料......
以镀制半导体薄膜、巨磁薄膜、金刚石及其它薄膜,外延生长及后续的光刻,激光与物质的相互作用、等离子体研究为目的,设计、研制了......
介绍了在不同衬底温度下,用强脉冲电子束在单晶硅(110)衬底上沉积LiNbO3薄膜的工艺过程,以及用脉冲电子束进行薄膜晶化处理的试验......
介绍了一种压力、温度复合传感器的主要研制加工技术。通过采用灵敏度温度自补偿技术、激光调阻技术、以及薄膜微电路加工工艺等关......
A low-power CO2 laser is used to deposit Fe powder and mixture of Fe and carbon powder on substrates respectively, and t......
为提高射流喷射的稳定性和薄膜成型效率,设计开发了具有气流聚焦功能的静电喷雾装置。仿真研究了喷雾空间电场和气体流场的分布特......
1企业介绍苏州拓升智能装备有限公司是营口金辰机械股份有限公司(简称“金辰股份”,证券代码603396)旗下的子公司,成立于2019年5月......
以SiCl4和H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,以3.5(A)/s的速率生长出了晶化度为75%的优质多晶硅薄膜.着重分析放电功率的......
