曝光系统相关论文
笔者是湖北省某县城一家图片冲印社业主，开店至今已有的10年，使用的是一台传统柯尼卡彩扩机，由于数码冲印市场的不断扩大，传统冲印业务......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
本文主要介绍了计算机直接UV曝光系统制网版的工艺和优势.网版印刷计算机直接制版技术不需要菲林晒版,由计算机直接把影像输出到网......
日本技术研究组合极紫外曝光系统技术开发机构成功地研制出下一代半导体曝光装置用极紫外(EUV)光源，其发光点输出达到4W，是目前世界......
曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各......
研究了交替型相移掩模及离轴照明对65 nm分辨率ArF浸没式光刻的影响.在3/4环形照明和3/4四极照明方式下,分别选用传统掩模和交替型......
为解决高压汞灯使用寿命短、光效低及对环境污染的问题,基于非成像光学理论,设计了一种UV-LED平行光曝光系统.系统采用节能环保、......
网点是表现印刷品层次、阶调和色彩的基本单位,印刷网点的变化往往会导致色彩还原失真以及阶调层次减少等质量问题.印刷流程中常见......
2004年,诺日士推出一台具有创新意义的QSS-3021SU数码扩印机.它的特点是:①占地面积仅1.39平方米.底片扫描仪和扩印机分开,可放置......
详述了电子束曝光系统的原理、种类、系统的构成和合轴的原理,以及如何使NBL(微纳投影)电子束曝光系统更好、更快地进行合轴,从而......
波前像差是衍射光栅的重要技术指标,它直接影响光栅的分辨率。由光致刻蚀剂记录两束相干光干涉条纹是制作全息光栅的关键步骤。为......
本文叙述了曝光照明系统的均匀照明原理及实现方法，并提出用计算模拟的方法研究曝光系统的光照分布情况，编制了相应的计算模拟程序。......
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光......
光刻一直以来都是半导体制造的咽喉工艺。光刻设备的研制也是全世界科研的重点,传统的近紫外波长的光刻设备使用汞灯作为光源,维护......
对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究，并通过多年工作实践经验，对对准工作台的精度分析作了......
过去的X线自动曝光系统(AEC),由于元器件的敏感度不高,只能适用于小毫安、长时间、普通仟状的胸部摄影,很难满足临床的摄影要求.近......
