曝光系统相关论文
USHIO is introducing the mass production system with large area projection elposure (8 inch one shot)and the high pr......
叙述具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构和均匀照明光学系统原理。为了满足i线光刻所需的光学传递函数要求,讨论了光刻分辨率......
本文介绍了一种用于制作微电子、微机械和微光学器件的高分辨力、大视场、大焦深和高功率的Ⅰ线接近式曝光系统,重点讨论用多点光......
本论文设计了平面及Ⅳ型凹面全息光栅曝光系统,研究了全息光栅掩模制作工艺。第一,提出采用莫尔条纹法精确控制平面全息光栅刻线密度......
大尺寸全息衍射光栅在高功率啁啾脉冲放大系统、大口径天文望远镜等系统中具有重要应用。全息光栅曝光的基本原理为两大口径平面波......
在过去的几年中人们已经有几次预言由于受到物理限制单个晶片的尺寸不可能再缩小,但实际上芯片的尺寸还一直在缩小中.国际半导体技......
新年伊始,中国数码彩扩机龙头企业之一的上海索菲亚电子机械有限公司,向市场推出了一款导入德国专刊技术的摩乐松(mullerSOHN)......
笔者是湖北省某县城一家图片冲印社业主,开店至今已有的10年,使用的是一台传统柯尼卡彩扩机,由于数码冲印市场的不断扩大,传统冲印业务......
概述了PCB的数字成像技术的动向和具有高生产性高精度的数字曝光系统。
Outlines the trends in PCB digital imaging technology......
本文主要介绍了计算机直接UV曝光系统制网版的工艺和优势.网版印刷计算机直接制版技术不需要菲林晒版,由计算机直接把影像输出到网......
根据平面区域变换的原理,导出电子束曝光机扫描场的畸变校正函数,并给出计算机模拟校正的结果。......
本文较详尽介绍了连发弹道摄影经纬仪的技术关键之一——移动底板直角坐标点系的曝光电路系统研制,包括其电路系统要求,设计方案与......
日本技术研究组合极紫外曝光系统技术开发机构成功地研制出下一代半导体曝光装置用极紫外(EUV)光源,其发光点输出达到4W,是目前世界......
“我们不仅重新设计了镜头,还彻底改造了曝光系统!实际上,从T9开始,这是T系列的第二代产品。”索尼(Sony)数字成像组个人成像部产品计划......
高亮度、长寿命的热场致发射(Thermal field emitter)阴极自七十年代中期已受到人们的关注和重视,历经十多年在理论分析、工艺制备......
本文叙述了曝光照明系统的均匀照明原理及实现方法,并提出用计算模拟的方法研究曝光系统的光照分布情况,编制了相应的计算模拟程序,作......
Tri-Light CTS是一种NuArc两用型普通三光ST曝光系统,对于传统网版同样产生不寻常的效果,但也适合计算机制作网印版系统CTS的网版曝......
本文主要介绍了计算机直接UV曝光系统制网版的工艺和优势。网版印刷计算机直接制版技术不需要菲林晒版,由计算机直接把影像输出到网......
曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各......
概述了PCB的数字成像技术的动向和具有高生产性高精度的数字曝光系统。...
本文介绍了一种高分辨率、多功能的曝光系统。着重阐述了光学系统设计中对柱体蝇眼透镜组和冷反射镜的考虑,并对与光学系统相匹配的......
研究了交替型相移掩模及离轴照明对65 nm分辨率ArF浸没式光刻的影响.在3/4环形照明和3/4四极照明方式下,分别选用传统掩模和交替型......
Fabrication of micro gratings using a femtosecond laser exposure system is experimentally investigated for the electron ......
讨论了深紫外曝光系统中椭球反射镜镀制装置在薄膜沉积中的镀制条件对膜厚和膜厚均匀性的影响,计算了椭球镜的膜厚均匀性并对如何改......
为解决高压汞灯使用寿命短、光效低及对环境污染的问题,基于非成像光学理论,设计了一种UV-LED平行光曝光系统.系统采用节能环保、......
网点是表现印刷品层次、阶调和色彩的基本单位,印刷网点的变化往往会导致色彩还原失真以及阶调层次减少等质量问题.印刷流程中常见......
1 CTP直接制版机分类CTP直接制版机按曝光系统一般分成三大类:1)内鼓式2)外鼓式3)平台式在这三种类型中,使用的最多的是内鼓和外鼓式CTP......
采用曲轴坐标系统,导出了磁浸没透镜的宽束曲光轴理论,研究了初始正则角动量矩不为零的无束腰磁透镜系统的电子光学性质;数值模拟出了......
在可变矩形电子束曝光系统中,通过变形控制偏转放大器,使数字控制系统实现了对电子束斑的形状、尺寸的模拟控制并引入各种校正量。......
近日.富士发布了第二代便携式打印机产品InstaxShareSP-2。只需10秒.用户就可将手机中的照片通过InstaxsharesP-2打印出来。通过采用......
详述了电子束曝光系统的原理、种类、系统的构成和合轴的原理,以及如何使NBL(微纳投影)电子束曝光系统更好、更快地进行合轴,从而......
波前像差是衍射光栅的重要技术指标,它直接影响光栅的分辨率。由光致刻蚀剂记录两束相干光干涉条纹是制作全息光栅的关键步骤。为......
分光器件是全息光栅曝光系统中的关键光学元件,它将入射激光光束分成两束,两相干光束叠加后形成干涉条纹。曝光系统的稳定性不但影......
本文叙述了曝光照明系统的均匀照明原理及实现方法,并提出用计算模拟的方法研究曝光系统的光照分布情况,编制了相应的计算模拟程序。......
光刻一直以来都是半导体制造的咽喉工艺。光刻设备的研制也是全世界科研的重点,传统的近紫外波长的光刻设备使用汞灯作为光源,维护......
对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究,并通过多年工作实践经验,对对准工作台的精度分析作了......
过去的X线自动曝光系统(AEC),由于元器件的敏感度不高,只能适用于小毫安、长时间、普通仟状的胸部摄影,很难满足临床的摄影要求.近......