金刚石厚膜相关论文
光学级CVD金刚石厚膜作为高性能耐磨透波材料在航空航天领域具有十分广阔的应用前景。本文利用直流等离子喷射法制备了直径为60mm......
该文设计出了热灯丝辅助PCVD金刚石厚膜沉积方法，该方法实现了以20～30μm／h的沉积速率沉积高品质的金刚石厚膜。该文对所制备的金刚石......
研究了衬底温度、核化密度、衬底表面预处理等工艺参数对微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石的影响。采用......
微波等离子体化学气相沉积是制备高质量金刚石膜的一个理想的方法。本文利用具有强化电磁场分布的压缩波导结构，设计了一套微波......
本文采用掺硼CVD金刚石厚膜作为加工电极进行了电火花成形加工实验.实验显示,掺硼CVD 金刚石电极在1～3μm 窄脉宽精微加工条件下的......
通过拉曼先谱、XPS，对采用热灯丝辅助PCVD方法在Mo片上生长的金刚石厚膜的背表面的成分、结构，给出了分析和研究，并用机械研磨的方法......
该文采用直流热阴板等离子体化学气相沉积法（简称直流PCVD方法）制备了金刚石厚膜，并且根据本方法的特点，提出了一个新的测量金刚石膜界......
研究了在直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的方法中，工作气压、基片温度和甲烷浓度对金刚石薄膜生长速率和质量的影响，在优......
该硕士学位论文采用直流等离子弧射流CVD法,研究了金刚石膜的沉积及其在YG系列 硬质合金刀具上的应用,研究工作分为以下几个部分:(......
该文采用真空钎焊工艺,分别用Ag-Cu-Ti合金,Ti箔加Ag-Cu箔做钎料,在一定的温 度、压力和保温时间下,实现了CVD金刚石厚膜与硬质合......
学位
该文利用HITACHI-8100 IV型分析电子显微镜研究了金刚石厚膜和Cu-Zn合金纳米微粒的晶体结构及生长特性.......
该文对直流热阴极PCVD法制备的金刚石厚膜进行了较系统的研究,主要内容有:对金刚石厚膜生长特性的研究,包括厚膜表面的结晶特性、......
ZnO是一种新型的直接带隙宽带半导体，室温禁带宽度约为3.37eV，具有较大的激子束缚能(60meV)，可以实现室温紫外激光发射。作为新一代的......
学位
成果成熟程度rn已经解决在硬质合金衬底上生长均匀致密、附着rn良好的金刚石膜的技术rn成果的特点rn金刚石薄膜涂层硬质合金工具由......
本文首先使用磁控溅射法在清洁的金刚石厚膜表面溅射Ti/Cu层,利用热的浓硫酸腐蚀表层的Cu和Ti层,获得具有合金TiC层的金刚石厚膜表......
通过实验分析了沉积温度、乙炔 -氧气流量配比对金刚石厚膜质量的影响及高质量金刚石厚膜的生长过程
The effects of deposition ......
研究了气体流量比 (O2 /C2 H2 )对燃焰法沉积金刚石厚膜的影响 ,并以约 5 0 μm /h的较高速率沉积出了均匀、致密呈淡黄色透明状的......
研究了衬底温度、核化密度、衬底表而预处理等工艺参数对微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石的影响.采用......
采用扩散焊与钎焊相结合的方法,用Ti箔和Ag-Cu箔共同做中间层材料,在一定的温度、压力和保温时间下,实现了气相沉积金刚石厚膜与硬......
通过分析了沉积温度、乙炔－氧气流量配比对金刚石厚膜质量的影响及高质量金刚石厚的生长过程。......
用直流辉光等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜，用氢的微波等离子体对其抛光截面进行刻蚀，研究了晶界对金刚石厚膜耐磨性的影响.结......
运用ANSYS软件建立了三维轴对称有限元模型，对金刚石厚膜（φ40mm×1mm）内部和膜／钼基体界面处的热残余应力各个分量的分布作了全面......
采用直流辉光等离子体化学气相沉积金刚石厚膜，利用氢的微波等离子体对抛光的金刚石厚膜截面进行刻蚀，用扫描电子显微镜、激光拉曼光......
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳......
用直流电孤等离子体喷射法进行了多次沉积，在硅衬底上制备了金刚石厚膜，并用扫描电镜对这种厚膜的截面结构和表面状态进行分析，发现截......
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的金刚石自支撑膜。观察到在金刚石厚膜生长过程中出现形貌不稳定性，并往往导致......
为探讨燃焰法沉积高质量金刚石厚膜的可能及其沉积速率,在反应气体流量比O2/C2H2=0.97～1范围内,研究了基体温度对燃焰法沉积金刚石......
利用直流热阴极辉光放电方法制备出了高品质金刚石厚膜,生长速率达到20μm/h,生长厚度达到3mm.为了解其工作特性、优化沉积工艺,本......
20多年来，CVD金刚石厚膜焊接工具和薄膜涂层工具的研究都已取得了十分显著的进展，关键性的技术问题已经基本解决，相关产品已经得到实......
研究了气体流量比（Ｏ２／Ｃ２Ｈ２）对燃焰法沉积金刚石厚膜的影响，并以约５０μｈ的较高速率沉积出了均匀、致密呈淡黄色透明状的高质量金刚石厚膜。......
扔的化学蒸汽(CVD ) 钻石电影在高技术领域里有宽广申请前景。但是多晶的 CVD 自我站的钻石厚电影有不利地影响它的广泛的应用的不......
本文对CVD金刚石厚膜刀具材料的制备技术及后加工工艺，VCD金刚石厚膜刀具材料的研究现状和发展前景进行了简要的综述。......
采用扩散焊与钎焊相结合的方法，用Ｔｉ箔和Ａｇ－Ｃｕ箔共同做中间层材料，在一定的温度、压力和保温时间下，实现了气相沉积金刚石厚膜与硬质合金间的......
与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀......
在HFCVD系统中采用B2O3作为掺杂源制备了B掺杂CVD金刚石厚膜，利用X-射线衍射仪研究了B掺杂对CVD金刚石厚膜应力的影响。结果显示，B元......
由于化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)金刚石厚膜的加工极其困难,本文提出了一种金刚石厚膜精加工的新工艺,即通......
采用MPCVD法在钼基体上制备金刚石厚膜,测量了等离子体发射光谱,并利用XPS、Raman和SEM对金刚石厚膜进行表征。研究了Mo原子进入金......
对用热阴极辉光ＰＡＣＶＤ方法合成的金刚石厚膜，采用扫描电子显微镜进行了观察，研究了金刚石的生长机制。......
金刚石厚膜片是采用化学气相沉积的方法制出来的一种全晶多晶纯金刚石材料，其物理性能和天然金刚石非常接近，而化学性质则完全相同，本......
在自行研制的直流电弧等离子喷射化学气相金刚石膜设备上，初步研究了补底温度、甲烷浓度、输入功率和循环气量等工艺参数对沉积金刚......
根据金刚石厚膜的实际应用要求,建立了EA-CVD(Electron Assisted Chemical Vapor Deposition)方法,制备出直径为80 mm,膜厚为1 mm......
采用热阴极DC-PCVD(Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition)方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜,研究了金刚石厚膜的......
研究了衬底温度、核化密度、衬底表面预处理等工艺参数对微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石的影响。采用......
建立和发展了非脉冲式的直流热阴极PCVD(Plasma Chemical Vapour Deposition)方法.通过采用温度为1100℃～1500℃的热阴极以及阴极和......
采用双辉等离子表面冶金技术在机械抛光后的金刚石厚膜表面制备钽涂层,研究了涂层的表面及截面形貌、微区成分、物相组成及结合性......
用燃焰法进行了金刚石厚膜的沉积实验，制备了厚度的０．６ｍｍ的金刚石厚膜。用扫描电镜观察了金刚石厚膜的生长过程，研究了生长工艺。......
对金刚石厚膜和PCD复合片的显微组织进行了对比分析,用优化设计的金刚石厚膜和PCD端铣刀进行了切削试验,证明金刚石厚膜端铣刀可实......
