掩模图相关论文
一、引言随着大规模集成电路(LSI)向着超大规模集成电路(VLSI)发展,即要求每一基片上集成十万个元件以上、一万门电路以上,对图象......
介绍了VLSI版图验证中电阻提取的基本原理和主要方法,给出了一种新颖的基于边界元法的电阻提取算法。该算法采用变节点单元,较好地解决了......
叙述了一种根据空间像匹配原理,进行光学邻近效应校正(OPC)的实用方法。此方法采用了三种超高分辨率图形技术:散射条,抗散射条和修饰图形。......
1引言一年半以前,国际SEMATECH财团将光学光刻的接班技术选择缩小到4种:极紫外(EUV)、离子投影光刻(IPL)、限角散射投影电子束光刻(SCALPEL)和x射线光刻技术。已证实......
论述了衰减相移掩模光刻技术的原理和曝光实验研究,给出了光刻曝光实验部分结果,并与传统光刻方法作了比较
The principle and expe......
激光技术已广泛应用于微电子领域大规模集成电路生产的各个环节。本文以激光全息光刻、激光全息掩模和激光干涉成像光刻为切入点,对......
本文阐述了驻波效应的成因及其对微细图形光刻,特别是对深亚微米和亚半微米光刻的影响;分析了驻波强度分布;根据抗蚀剂的物理和化学机......
掩模图形不同区域的波前因衍射光的相干叠加作用而对光刻胶上的场点产生不同的影响。为研究这一作用规律,采用波前分割的方法对掩......
随着集成电路特征尺寸进入2Xnm及以下节点,光源与掩模联合优化(SMO)成为了拓展193nm ArF浸没式光刻工艺窗口、减小工艺因子的重要......
使用纯相位空间光调制器编码线性相位掩模,实现了联合菲涅耳变换相关器。为分析空间光调制器相位调制误差对相关器相关性能的影响,......
本文介绍了绕定轴摆动扫描式投影光刻机扫描畸变的概念、产生原因和类型。在TGK75A型样机具体结构的基础上论述了扫描畸变调整补偿......
运用数学形态学和计算机掩模扫描方法,建立了掩模图象自动分析TOOTH.SCA软件和方法,并应用于氟化物(NaF)对人牙釉质矿物影响的自动定量分析。获得龋......
世界上很多半导体器件制造厂广泛使用的1:1扫描投影光刻机已成为一种主要的光刻设备。但是,随着以256K 动态 RAM 为代表的真正超 ......
近年来,随着技术的发展,在半导体大规模集成电路、磁泡、光集成电路及表面波器件等多种器件领域,亚微米加工技术已成为提高器件特......
掩模是混合和集成电路制作时最基本过程。通常,掩模加工过程是材料淀积、扩散或腐蚀。由于在制作单个电路和连线时,这样的加工过......
使用移相掩模能实现亚半微米光学光刻。我们提出了一种用SiO_2作移相器的新的移相掩模。在石英掩模衬底上的SiO_2移相器具有在远紫......
描述了用高功率脉冲激光打靶产生的等离子体作为软X射线源而进行的接近式软X射线光刻研究。采用负性辐射线光刻胶聚氯甲基苯乙烯(PCMS),得到......
本文介绍了在扫描电子束曝光机的计算机控制系统中,对半导体器件、电路掩模图的常用数据压缩处理技术,并由此导出了相应的图形发生......
在使用无掩模腐蚀制作硅微机械结构时,其结构凸角的削角特性有别于常规有掩模腐蚀时的情况.本文通过分析和实验,研究了该情况下凸......
灰度掩模技术是制作三维微纳结构的有效方法之一,灰度掩模图设计是灰度掩模技术的重要组成部分.目前,在微机械器件制作领域中,通常......
单晶硅异向化学腐蚀技术是制造三维硅微结构的重要加工手段,已广泛应用于微传感器、微致动器等微机械元件的制作。对该项技术的深入......
根据生产过程的需要,在一台小型机上实现了对PG(图形发生器)文件的检查和处理,以及从PG文件产生原图文件.在通常情况下,这些工作是......
随着半导体技术突飞猛进的发展,对于制造半导体器件的重要工艺——光刻工艺的要求也越来越高。这些要求中“关于如何提高接触式光......