半导体光刻相关论文
深紫外激光由于波长短、加工精度高的优点,在半导体光刻、激光光电子能谱仪和激光切割等方面具有重要应用。目前,KBe_2BO_3F_2(KBB......
紫外光学在光刻方面的巨大作用随着光刻变成信息时代的“铣床”，允许更短波长通过的光学技术现在似乎成了继续改善性能的最有希望的......
光刻术是把超小花样刻印到半导体薄片上来制作复杂电路的技术，目前这些半导体电路正促使信息爆炸。这一技术是今天经典光学设计和制......
１引言一年半以前，国际ＳＥＭＡＴＥＣＨ财团将光学光刻的接班技术选择缩小到４种：极紫外（ＥＵＶ）、离子投影光刻（ＩＰＬ）、限角散射投影电子束光刻（ＳＣＡＬＰＥＬ）和ｘ射线光刻技术。已证实......
采用典型的半导体光刻工艺用ＢＨＦ／ＨＮＯ３溶液成功地刻蚀了ＰＺＴ（５２／４８）薄膜。研究了薄膜的微观结构对微图形的制作精度的影响。结果表明，在薄膜中晶粒团聚区......
五 微缩芯片实验室 所谓缩微芯片实验室(或称微型全分析系统)就是将生命科学和医学研究中的许多不连续的分析过程,如样品制备、化......
和几乎所有半导体光刻领域涉及的其它事情一样,光掩膜缺陷检测和消除正经历着一场革命,因为新的缺陷类型需要更多创新的清洗设备和......
以磁共振压力显微和半导体核子自旋态研究为目的,采用电子束和等离子体刻印方法制备硅振荡器,脉冲调制序列控制磁共振条件频率和旋......
日本Gigaphoton公司开发出了用于制造平板显示器(FPD)的极小激光退火工序用准分子激光器“GIGANEX”系列,并将其配备在日本V-Techn......
IBM日前宣布了能够支持22 nm制程的全套半导体光刻制造工艺解决方案,能够在继续使用当前光刻技术的前提下,满足今起直至2012年前后......
范成建同志是中国微电子行业骨干企业──中国华晶电子集团公司所属无锡华晶微电子股份有限公司五分厂一位功绩突出的科技工作者，研......
我们在国内首次研制成功钛扩散LiNbO_3定向耦合调制器。在0.6328μm的光波长,加4kHz、50kHz及620kHz调制信号电压,进行了调制实验......
1982年,IBM公司的研究者首次报道将激励激光器用于半导体光刻。从此,激励激光器进入了用于接触曝光和掩模制造等的商品系统中。然......
IBM公司研究人员于1982年首先将准分子激光技术应用在半导体光刻工艺中。此后,逐步商品化的准分子激光技术成功的用在接触式光刻和......
本文概要地比较了扫描电镜和电子束曝光机二者电子光学柱的异同。介绍了把一台ＡＭＲＡＹ系列电镜的电子光柱改造成ＤＹ－５型电子束曝光机电子光学柱......
对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作详细的分析，提出了更加合理精确的计算模型，并与其他论文中的实验数据作了初步比较，模......
SEMI最新研究报告显示，2011年全球半导体光刻掩膜板市场达到了31．2亿美元规模，预估2013年这一数字可达33．5亿美元。继2010年达到高峰以......
深紫外激光由于波长短、能进行更高精度加工的优点,在半导体光刻、激光光电子能谱仪和激光切割上具有重要的应用。目前,KBe2BO3F2（K......
目前,半导体器件被广泛应用于智能手机、汽车等各个领域,在其制造过程中半导体光刻机必不可少。1970年,佳能发售了日本首台半导体......
最近，泰国国家同步加速器研究中心（NSRC）收到了由习本SORTEC公司捐赠的一台用于同步加速器的辐射源。该设备是一种非常强的光源，用于材......
简要回顾了半导体光刻的发展历程以及准分子激光作为光源在半导体光刻中的需求。简述了高压脉冲电源的基本原理及应用,介绍了全固......
<正>深紫外激光由于波长短、加工精度高的优点,在半导体光刻、激光光电子能谱仪和激光切割等方面具有重要应用。目前,KBe2BO3F2(KB......
去年全球半导体光刻掩膜板市场已达到了30亿元规模,驱动这一市场成长的关键主要来自于先进技术持续进行微缩,......
1曝光设备当前,在半导体器件生产中,用于65nm制程的器件已进入量产,而用于45nm制程也已成熟,即将进入量产期。
1 exposure equipm......
以生物芯片及其制作过程来重点介绍采用半导体光刻技术制作基因芯片,通过与传统光引导合成法的比较,表明了这种方法在制作高密度寡......
