光刻系统相关论文
本直写光刻系统主要针对国内在大型紫外激光直写装备与技术方面的缺失,同时考虑到大量的掩膜版制造、直写光刻、3D光刻需求,且目......
本文提出一种利用基于DMD(数字微反射镜装置)的数字光刻系统制作掩模版的方法。首先通过ATUOCAD制图软件制作出二元光栅、龙基......
本文提出了基于体绘制技术的虚拟光刻系统.该系统支持BMP格式掩膜图形输入,拥有完整的衍射和驻波模型。与其他光刻模拟器相比,本系......
矢量衍射理论适用于大数值孔径光学系统中研究照明光的偏振态对成像对比度的影响.本文主要研究了离轴照明下的S偏振光和P偏振光对......
本文首先简要介绍了国际上X射线光刻技术在GaAs器件及电路制造中的研究进展情况,再对目前国内X射线光刻技术的研究状况进行了较为......
针对衍射限成像光刻系统成像特性,提出用共轭滤波的方法,通过滤波使低频部分减小,提高光刻分辨力。结果表明,光瞳滤波能进一步提高光......
最近宣布的光刻设备就速度、分辨率、对准、光源甚至价格方面都非常接近。SVGL、NIKON、ASML和CANON公司之间设备的主要差别在于SVGL采用了一种带反射折射......
针对光刻系统分辨力和焦深的矛盾 ,详细研究了二元光栅照明对硅片上光强以及对光刻系统传输频率的影响 .结果表明 ,二元光栅照明可......
介绍了一套自行研制的用于光瞳滤波实验的投影光刻实验系统 ,其物镜光瞳处预留出放滤波器的位置 ,可方便取放滤波器。在理论分析的......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
介绍了一套自行研制的用于光瞳滤波实验的投影光刻实验系统,其物镜光瞳处预留出放滤波器的位置,可方便取放滤波器。在理论分析的基础......
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研制了一种傅里叶变换存储光刻系统,为在光刻胶干版上进行傅里叶变换存储研究提供了一种有效的工具。系统采用空间光调制器作为图......
随着集成电路特征线宽的不断减小,当前的光刻系统中光的衍射和干涉等问题严重地影响了掩模图形的曝光准确性,而要解决这种问题的关键......
由于我们一直致力于预测集成电路技术的未来发展.这就容易忽视那些老代技术潜在的巨大市场的需求。但令人欣慰的是.包括248纳米光刻......
精密光刻系统主要应用于烟、酒等产品商标的防伪。介绍了直线电动机的结构与原理,以及精密光刻系统的组成与原理。系统采用双闭环控......
介绍了一种新型的光刻系统-全内反射全息光刻系统.着重讨论了设计该系统时的几个重要因素,给出了用该系统开展的实验研究结果.......
2011年3月8日,世界领先的先进半导体与封装、微机电系统、硅绝缘体(SOI)和新兴纳米技术市场晶圆键合与光刻设备应供应商EVG宣布,其产品......
<正> 每一代新的半导体芯片都具有更精细的结构。因此,生产线通常也就需要更新的光刻设备。为组建经济实用的生产线,就必须考虑几......
日本科学家Tadashi Komagata开发出带电粒子束光刻系统,并已申请专利。此系统通过电子束或离子束用于掩模版或硅晶圆的直写光刻。......
据Semiconductor Reporter报道,ASML Holding NV日前在日本推出了新的193nM光刻系统Twinscan...
期刊
FSI国际有限公司日前宣布再次收到POLARIS显微光刻系统订单,该订单来自一家领先的砷化镓(GaAs)器件代工厂。这一订单代表了GaAs客户......
针对投影光刻成像系统在数值孔径足够大时所产生的分辨力和焦深的矛盾,详细研究了光瞳滤波对投影成像对比度的改善情况,根据不同掩模......
随着光刻系统复杂程度的提升,传统基于文档的系统开发方法,在保持设计文档间一致性及变更影响分析的困难程度也越发提升.特别是光......
<正> 据美国《Semiconductor International》杂志1990年10月号报导,苏联人好像正急于要用他们最好的东西来换取美国的半导体技术,......
UnityAP300宽场光刻系统以Ultratech的Unity平台刑为创建基础,可为很多先进的封装应用提供高生产率和拥有超强的性价比。......
Litmas^TM RPS 1501和3001远程等离子源平台;干法光刻系统;立式炉管;刻蚀系统;离子注入设备......
EVG推出EVG620HBL全自动光刻系统,以EVG光刻机平台为基础,旨在优化高亮度发光二极管(HB—LED)、复合半导体和动力电子设备的生产制造。......
海德汉公司是世界上最早制造光刻产品和机床数控系统的公司之一。100多年来,推动了世界光刻和数控系统制造技术不断地向前发展。......
本文提出了一台高分辩率激光扫描光刻系统的对准性能数据。该系统采用了通过成像物镜进行对准的同轴对准原理(TTL),其具有多束光路......
针对光刻系统分辨力和焦深的矛盾,详细研究了二元光栅照明对硅片上光强以及对光刻系统传输频率的影响,结果表明,二元光栅照明可显著提......
沈阳仪表科学研究院经过2年多的技术攻关,成功研制出了拥有自主知识产权的集成电路(IC)光刻系统精密紫外反光镜产品,其关键技术指标达......