离子注入掺杂相关论文
研究了可取代多晶硅扩散掺杂的离子注入掺杂工艺,通过两种掺杂方式对CCD栅介质损伤、多晶硅接触电阻及均匀性等关键参数影响的对比......
离子注入技术已经成功的从IC(集成电路)制造中延伸到了太阳能池的制造过程中,并且成为N型单晶太阳能池的研究热点。我们在电阻率为......
首先综合介绍了稀磁半导体(Diluted Magnetic Semiconductors, DMSs)的基本理论和应用前景,以及In2O3材料的结构、性质和用途,并介......
<正> 1971年5月在西德召开了半导体离子注入技术的第二届国际会议,根据该会的报导,离子注入技术在半导体器件制造中的用途日益广泛......
