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对极紫外光刻掩模的吸收层和多层膜分别建模, 将二者组合以实现对具有复杂图形分布的掩模衍射谱的快速精确仿真。对存在图形偏移的......
提出一种面向光刻掩模优化框架基于半隐式离散化的数值技术方法,对框架中稳定时间相关模型中的扩散项、非扩散项分别进行隐式、显......
随着光刻胶厚度的不断增大,制作的光刻图形畸变愈发严重,这极大的影响了微结构器件的性能与应用。针对高深宽比柱状微结构在光刻胶......
光刻机投影物镜波像差是影响步进扫描投影光刻机性能的重要指标。随着数值孔径逐渐增大,为保证成像质量,要求投影物镜波像差足够小......
接近式紫外光刻中光刻胶图形形状失真是影响基于紫外光刻工艺的大深宽比微结构质量的重要因素之一.为把握其规律,并探寻减小光刻胶......
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近年来,随着MEMS研究及其应用的快速发展,微细加工技术作为其中的一个重要组成部分,获得了长足的进步。UV-LIGA技术是现代微细加工......
近年来,基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字光刻技术引起了人们的极大的关注。DMD作为数字光刻系统的掩模发生器,具有灵活、低成本......
近年来，微机电系统(MEMS，Micro Electro Mechanical System)研究及其应用的快速发展，推动着微细加工技术的不断改进和提高。UV-LIGA技......
