刻蚀机相关论文
介绍一般半导体制造系统的结构及其信息交互方式,提出一种基于Web Service技术上的通信模型,讨论其结构组成并探讨了其相关特点。......
高纯Y2O3涂层对刻蚀机工艺腔室具有良好的保护作用。与传统的阳极氧化法制备的防蚀铝膜、Al2O3涂层相比，Y2O3的化学性质非常稳定，具......
在今年十月份的“高交会”上,武汉华工激光工程公司根据市场需求,带来了最新的技术成果,如半导体晶圆紫外激光划片机、ITO膜激光刻......
国内企业的篷勃发展,与近几年的国家持续支持密不可分。“十五”期间,国家科技部、发改委、工信部、财政部重点支持了光刻机、刻蚀......
马颂德副部长考察集成电路刻蚀机与注入机重大项目进展情况/我国实现超级稻计划将大幅度提高水稻单产/机器人主题和MEMS专项联合组织数字化医疗装备研讨/机载高分辨力微波辐射计航空校飞试验获得圆满成功/“高
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工业和信息化部近日，由北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机，已经全面通过中芯国际集成电路制造有限公司的生产线全......
中微半导体设备有限公司宣布Primo SSC AD-RIE-TM（中微单反应台等离子体刻蚀设备）已交付韩国领先的存储器制造商。Primo SSC AD-RIE-......
研制单位：中微半导体设备（上海）有限公司产品介绍：等离子体刻蚀设备是极大规模集成电路制造的三大关键设备之一，PrimoSSCAD-RIE^TM是中......
Surface Technology Systems plc（STS）宣布其新产品“Pegasus”的全新离子反应式深硅刻蚀机。Pegasus延续STS一直引以为傲的Advance ......
上海和旧金山2015年7月9日电／一中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布Primo SSC AD-RIE“（中微单反应台等离子体刻蚀设备）已交付韩......
近日，中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买PrimoSSCAD—RIETM（中微单反应台等离子体刻蚀设备）......
2014第十六届中国国际工业博览会圆满闭幕。在本届工博会t，中微公司的介质刻蚀机Primo AD—RIE从上千家参展企业中脱颖而出，被授予工......
总公司位于英国威尔士New Port的Surface Technology Systems plc(STS)近日宣布推出其新产品"Pegasus"全新离子反应式深硅刻蚀机,......
LSK—3型离子束刻蚀机是用于刻蚀动压气体轴承螺旋槽为主的超精细加工专用设备。自1985年研制成功后,该机经过上百次长期使用运转,......
以某18英寸湿法刻蚀机腔室为研究对象,建立了流-热耦合的数值分析模型,研究了刻蚀过程中工艺气体在圆筒式腔室内流速、压强、温度......
针对目前仿真数据管理技术缺少文件语义访问接口支持的问题,提出基于语义的仿真文件跨平台访问方法,并开发了一个面向刻蚀机研发中......
