高能脉冲磁控溅射技术（HIPIMS）以峰值功率密度高，金属离化率高为特点，较传统直流磁控溅射（DCMS）具有其独有的优势。将高能脉冲磁控溅射（HI......

为探究脉冲频率对通过高功率脉冲磁控溅射制备TiN薄膜组织力学性能的影响，选用Ti靶和N2气体，采用反应磁控溅射技术通过改变HiPIMS电......

作为一种半导体材料,氧化锌的两个最主要特征:直接宽禁带和高激子束缚能。这些特性使氧化锌广泛应用于光电器件、太阳能电池等等。......

采用高功率脉冲磁控溅射法在Si和高速铜基底上制备类石墨（Graphite—likecarbon，GLC）非晶碳膜，研究了基底偏压对薄膜微观结构、机械性......

目的比较直流磁控溅射(DCMS)和高功率磁控溅射(HiPIMS)两种沉积技术制备的氮化铬(CrN)薄膜的结构和性能。方法采用DCMS和HiPIMS沉......

为提高磁控溅射制备薄膜的致密度,减少结构缺陷,研究薄膜显微结构对硬度、韧性及耐蚀性能的影响,尝试在改变离子源和基材偏压的条......

高功率脉冲磁控溅射(High-power impulse magnetron sputtering,HiPIMS)是一种峰值功率极高,靶材原子高度离化的离化物理气相沉积......

目的实现性能优异的CrN薄膜在低温沉积条件下的可控制备。方法利用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS),通过调控脉冲放电波形(可调控......

高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)作为一项极具发展前途的物理气相沉积新技术,近年来引起学术界和工业界的广泛关注.HIPIMS技术(也被称......