非晶碳相关论文
目的 对比研究了聚醚醚酮（PEEK）与不锈钢、CrN涂层、Cr/GLC多层涂层三种配副的大气环境摩擦学行为。方法 采用多靶磁控溅射镀膜技术......
Ti-Al-C-N涂层成分范围广、相结构丰富,为制备性能更优的新三代氮化物硬质涂层提供了良好平台。但四元相图上可获数据有限,Ti-Al-C......
阻变随机存储器（ReRAM）,由于其优异的器件性能极有潜力成为下一代非易失性存储器:结构简单、尺寸缩减能力强、超快的操作速度以及低......
公开号 ＣＮ１２０４６９８Ａ 申请人 国际商业机器公司 地址 美国纽约州 公开了气相淀积的ＢＡＲＣ和制备基于非晶碳薄膜的可调且可去除的抗反射涂......
改善关键摩擦副零部件材料的表面防护性能是确保机械系统在海水环境下长寿命稳定运转的一个非常重要的手段。本研究采用多弧离子镀......
随着半导体工业突破22 nm向更小的方向推进,传统的硅材料浮栅结构存储器接近理论极限。作为新型非易失存储器之一的阻变存储器(RRA......
采用过滤阴极真空电弧技术以PH_3为掺杂源,施加0—200 V基底负偏压,制备了掺磷四面体非晶碳(ta-C:P)薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS......
电子显示器是人和机器之间的媒介物,是从各种机器（装备）上产生的各种情报信息通过视觉传递给人们的电子器件。它在人和机器之间担负......
学位
纳米多层膜具有单层薄膜难以达到的各种特殊性能,如高的硬度、结合强度,高的韧性及热稳定性,低的摩擦系数等;同时,非晶碳(a-C)薄膜......
金属掺杂非晶碳颗粒膜在光学器件、高密度磁记录和磁性传感器等方面具有重要的应用价值。非晶碳母体中的碳-碳成键多变,我们可以通......
碳材料和硅材料是同族元素，有相似的物理和化学性质，而且环保、来源丰富，用碳部分代替硅做光伏材料是可行的。本文用磁控溅射方法把掺......
利用质量分离的低能离子束沉积技术,得到了非晶碳膜.所用离子能量为50-200eV,衬底温度从室温到800℃.在沉积的能量范围内,衬底为室......
在等离子增强气相化学沉积 (PECVD)系统中 ,利用氢稀释方法制备了氢化非晶碳 (a-C∶ H)薄膜样品。在高真空腔中测量了样品的场发射......
基于密度泛函理论,采用了一种更为精确的交换相关泛函OLYP(0PTX+LYP),对密度范围从2.0到3.2g/cm3的非晶碳进行结构建模.模拟得到的......
对催化裂解法制备的碳纳米管(CNTs)分别进行了酸处理、高温石墨化及酸处理结合高温石墨化的综合处理.利用透射电镜、拉曼光谱仪、......
在电容耦合式PECVD系统中,以CH4和H2为气源,通过控制H2的流量制备了一系列氢化非晶碳膜(a-C:H)样品.利用傅里叶变换红外光谱(FTIR)......
钢铁合金是海洋工程重大装备的关键支撑与结构材料,但在海洋复杂环境下,其运动部件面临严峻的磨损与腐蚀挑战。常规的有机防护涂料......
以镀有Mo过渡层的Al2O3衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积系统中,制备了非晶碳/Mo2C混合结构薄膜,反应气体为CH4和H2.在高真空......
在实验上对非晶材料进行原子尺度研究的手段十分有限,通过模拟的方法可以弥补实验的不足,介绍了一种利用第一性原理对四面体非晶碳......
研究了外延法生长金刚石薄膜的场发射特性．金刚石薄膜用热丝CVD法生长，甲烷与氢气比例为2．5％，生长于事先电泳沉积在硅衬底的金刚石微晶......
目的研究不同退火时间对Ni催化非晶碳转化生成石墨烯的影响。方法采用磁过滤电弧沉积技术,在SiO2/Si基片上制备非晶碳薄膜,之后利......
采用低压等离子增强化学气相沉积法用溴乙烷、氢气制备了掺溴的非晶碳梯度薄膜。通过样品的XPS能谱分析研究了薄膜沉积速率与氢气......
采用反应磁控溅射技术,通过改变溅射靶电流实现了不同Ag掺杂含量0.7at%~41.4at%非晶碳膜(a-C:Ag)的可控制备,并系统研究了Ag含量对......
用射频(13.56MHz)反应溅射法制备了a-SiC:H 薄膜,并将制得的薄膜采用高能中子(14MeV)进行辐照.采用电阻率、Raman谱及红外光谱对薄......
采用激光Raman散射分析法对CVD金刚石膜的生长过程进行研究,讨论在金刚石膜生长的不同阶段,膜内金刚石和非金刚石成分的相对含量及......
众所周知,能源与环境问题日趋严重,新能源的开发和新型储能装置研发迫在眉睫。超级电容器具有超高的功率密度和能量密度,是目前能......
用高真空磁控溅射设备分别在工作气压为0.40Pa和0.67Pa下制备了非晶碳膜全反射镜样品,利用X射线掠入射反射测量了膜层厚度、粗糙度......
在Al2O3陶瓷衬底上用直流磁控溅射技术沉积过渡层Mo,再利用微波等离子体化学沉积系统在Mo过渡层上制备非晶碳薄膜,利用X线衍射（XRD）......
采用脉冲激光沉积方法在石英玻璃衬底上沉积铁掺杂的非晶碳膜（a-C∶Fe），然后使用真空热蒸发设备在膜上镀铝（Al）电极层，形成Al/a-C∶Fe/Al......
随着电子信息的高速发展,由电磁波引起的电磁干扰和电磁辐射对电子通信设备及人们生活造成严重的威胁和影响。同时,雷达波隐身技术......
使用CF4和CH4为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备了掺氟非晶碳(a-C:F:H)薄膜,并在N2气氛中进行了不同温......
在水冷反应室式微波等离子体化学气相沉积装置中以混合的CH4/H2/O2为反应气体,研究了O2浓度对制备金刚石膜的影响.实验发现,很低浓......
在Al2O3衬底上采用微波等离子体增强化学气相沉积（MPCVD）系统中沉积薄膜,反应气体为CH4、H2。从样品的Raman谱中可以分析出薄膜中含......
利用微波等离子体化学气相沉积法在不锈钢衬底上直接合成非晶碳和碳纳米管混合薄膜.采用氢气和甲烷作为反应气体,流量分别为100和1......
对AlwO3陶瓷衬底进行粒度为W20的金刚砂机械抛光，采用磁控溅射方法镀过渡层Mo，对其表面进行Nd：YAG激光刻蚀处理。最后在微波等离子体......
传统的浮栅型存储器受限于尺寸无法进一步缩小,为了更好满足未来信息存储需求,目前多种新型存储器件陆续被提出。其中,阻变式存储......
碳在自然界中分布广泛,储量丰富。由于碳元素具有独特的杂化轨道和电子结构,因此它可以形成许多结构和性能各异的纳米碳材料,如非......
石墨烯自2004年被首次发现以来,以其独特、优异的结构和特性引起了广泛关注。目前,石墨烯的制备已取得了众多进展,但在大尺寸、高......
金属催化固体碳源作为一种新型石墨烯制备技术,由于具有大面积制备石墨烯的潜力,近些年来引起广泛关注。其中,非晶碳作为产业界广......
在钨的碳化物中，只有六方结构的碳化钨（WC）能够在室温稳定存在，而其他碳化物（W2C和WC1-x）通过高温淬火的方式才能获得。WC更重要的存在意......
利用胶体小球掩蔽刻蚀技术，制备了单晶硅纳米阵列，利用原子力显微镜观察了硅阵列的表面形貌，实验结果表明，硅柱阵列具有高密度和较好的......
碳基材料因其碳原子的价电子轨道存在sp~3、sp~2和sp~1三种杂化构型而具有多种晶体和非晶结构类型,多样的性质以及广泛的应用,长久......
氢化非晶碳(a-C：H)和氢化非晶碳化硅(a-Si1-χCχ:H)薄膜在室温条件下均具有较强的发光性能,因此有潜力作为各种发光器件的发光层材......
自黑体概念引入和黑体辐射定律提出的一百多年来，人们一直在寻找吸收率高于99%，反射率低于1%的超黑材料来尽可能减小不必要反射，目前......
非晶碳(a-C)薄膜具有低的摩擦系数、高的硬度、优异的耐磨性能以及良好的生物相容性,在摩擦学和生物医学等领域具有很大的应用前景......
随着科学技术的不断进步,我们已经进入了一个信息产业规模化的时期,信息存储技术已经渗透到了各行各业。阻变存储器（RRAM）因具备简单......
期刊
