光学光刻技术相关论文
本文采用电化学辅助-机械可控裂结法测试了1,4-对苯硫酚(BDT)以及4,4'-联吡啶(BPY)两个模型分子的单分子电导[1]。这种方法首......
光学光刻技术一直是微加工技术的主流技术之一,是近来世界各国研究的重点。本论文在纵观了光学光刻技术的国内外发展现状的基础上,......
:随着光学光刻技术向更小特征尺寸加工推进 ,必然要重视提高分辨率的方法。通过强、弱离轴方法的照明变形技术正引起极大的关注。......
光刻机的分辨率是基于瑞利分辨率公式R=k1λ/NA,提高分辨率的途径是缩短曝光光源的波长和提高投影物镜的数值孔径.目前主流市场使......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
2下一代光刻技术虽然光学光刻技术为微电子技术突飞猛进的发展立下了汗马功劳,创造了一次又一次的人间奇迹,然而目前集成电路特征......
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术,采用可变轴浸没透镜,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在1mm^2子场的情况下,运用步......
光刻作为推动半导体制造技术的关键工艺一直以来备受业界的关注。近年来,随着器件尺寸的不断缩小,作为现有光学光刻技术的延伸,浸没式......
从化学增强型抗蚀剂(CAR)到抗反射涂层(ARC),远紫外(DUV)光刻技术需要特殊的温度条件。本文阐述了解决这些问题的方案,讨论了监控及分析生产用抗蚀剂......
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微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,光学光刻技术依然是目前的主流微纳加工技术,同时有多种替代技术如电子束......
在今年的SPIE Microlithography年会上,与会的专家们一如既往地针对如何延伸光学光刻技术使用寿命的问题进行了大量的研讨。而与往......
最近Semiconductor International与里德调研公司合作,向光刻工作者调查了对下一代光刻技术的要求与前景展望。果然不出所料,受访......
本文主要介绍了高能电子束纳米曝光系统重点环节的研制方案,在部分研制工作完成的基础上,进行了初步曝光实验,并就其结果进行了理......
厚胶光学光刻具有工艺相对简单、与现有IC工艺流程兼容性好、制作成本低等优点,是用来制作大深度微光学、微机械、微流道结构元件的......