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金属掩膜相关论文

4H-SiC MESFET工艺中的金属掩膜研究

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期刊

碳化硅金属掩膜微波功率器件干法刻蚀功率增益

自组织量子点的单光子特性及其在量子信息中的应用

20世纪后半叶以来,随着半导体微纳加工技术的飞速发展,芯片制备的极限尺寸从最初的微米量级逐渐发展到纳米量级。同时人们发现能耗......

学位

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