磁控溅射器相关论文
本文在磁控溅射器中用钛板作阴极,采用反应磁控溅射方法在玻璃基板上制备了二氧化钛薄膜,并研究了其光催化特性。......
在大型薄膜生产设备中，膜厚的横向均匀性是一项重要指标。本文提出用Ｍｏｎｔｅ－Ｃａｒｌｏ方法模拟大型磁控溅射器膜厚横向分布的计算方法，计算了靶的几何......
提出并研制成功一了一种新型旋转圆柱菜磁控溅射器，由于溅射器采用静止的电磁场及匀速旋转圆筒形靶材的新型结构，因此它具有靶材利用......
在现代大型薄膜连续生产线中，其生产效率主要受以下两因数的影响；溅射器的速率和靶材的使用周期，本实验研制了一种圆筒形靶材绕溅射器......
介绍一种新型磁控溅射装置。它采用两块极性相对的环状磁铁的设计方法，通过扩大靶表面的等离子放电区域面积，使传统磁控溅射枪使用中......
