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介绍一种新型磁控溅射装置。它采用两块极性相对的环状磁铁的设计方法，通过扩大靶表面的等离子放电区域面积，使传统磁控溅射枪使用中经常受到的两个限制－溅射速率与靶的利用率得到了较大的改善。实验中铜靶在溅射功率密度为１１Ｗ／ｃｍ＾３时溅射速率约为８００ｎｍ／ｍｉｎ，如何继续提高功率则可获得更高的速率。而靶的利用率可达６４％左右。另外，在认为出射粒子符合ｃｏｓθ分布的前提下，发现当α＝３．３时，实验数据和理