照明误差相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

照明误差相关论文

极紫外投影光刻掩模的多层膜与照明误差

讨论了极紫外投影光刻掩模的反射光谱随多层膜参量的变化，通过曲线拟舍得到了峰值反射率、带宽和中心波长与多层膜粗糙度、材料比值......

期刊

薄膜光学极紫外投影光刻掩模照明误差 Film optics Extreme ultraviolet lithography Mask Illumin

极紫外投影光刻掩模若干问题研究

极紫外投影光刻(EUVL)是极具竞争力的新一代光刻技术,工作于13.0nm波长,理论上适用于65~30nm的数代集成电路制造。工业部门的专家......

学位

极紫外投影光刻掩模多层膜照明误差缺陷

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