掩模制作相关论文
电子束曝光是迄今为止分辨率最高的微细加工手段之一,是生产及研制微电子器件及特种微型器件的关键性技术.文章介绍了我所最新研制......
通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45 nm及以下技术节点的掩模要求.此外类似于折射指数、平整度、成分、均......
介绍了研制的极坐标激光直接写入系统．该系统可用于二元光学掩模的制作．最大掩模直径为１００ｍ ｍ ；最细曝光线宽为１．０μｍ ；套准精度及自动调焦精度......
本文介绍一种激光直写技术制作的防伪标识及其制作方法。该防伪标识采用计算机绘图，采用微光刻技术中的光刻掩模制作技术制作母版，再......
该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用，即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和......
采用编码灰阶掩模制作了折射微透镜，考虑透过掩模光强分布和抗蚀剂成像过程的非线性影响，以掩模设计进行了修正，基于部分相干光理论和......
本论文设计了平面及Ⅳ型凹面全息光栅曝光系统，研究了全息光栅掩模制作工艺。第一，提出采用莫尔条纹法精确控制平面全息光栅刻线密度......
通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45 nm及以下技术节点的掩模要求.此外类似于折射指数、平整度、成分、均......
计算模拟了激光束和电子束直写加工的掩模畸变,并分别用理想掩模和有畸变的掩模进行投影光学光刻过程的模拟和比较,讨论了光学邻近......
通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45lira及以下技术节点的掩模要求。此外类似于折射指数、平整度、成分、......
<正> 一、我国光掩模技术的发展回顾我国的光掩模制作始于60年代中期,比国外晚5～6年。当年采用传统的照相术及手摇光刻机开展工作,......
微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺,是微纳米加工过程中的关键步骤和基础。高质量、柔性、低成本......
