微粗糙度相关论文
以获得高去除速率和低表面粗糙度为目标,建立了基于纳米氧化铈-硅溶胶复配混合磨料新模式。采用小粒径、低分散度的30 nm氧化铈-硅......
研究了SC-1清洗过程对重掺硼和轻掺硼硅片表面颗粒、微粗糙度的影响及其清洗后硅片表面化学组态分布,采用表面颗粒激光扫描仪、原......
论述了使用原子力显微镜测量超光滑光学表面的优点及其在光学领域中的重要应用,列举了用这种方法测试得到的超光滑光学表面微轮廓......
月球表面是粗糙面,既存在地形起伏的大尺度粗糙度,也存在微小尺度的粗糙度。目前国内外关于微尺度粗糙月面对月壤微波辐射亮温的影......
硅表面微粗糙度对于现代微电子工艺是一个非常重要的参数.本文综述了硅片表面微粗糙度的研究进展,讨论了微粗糙度的测量和产生机理......
综述了碲镉汞分子束外延所用的si衬底的传统RCA清洗方法和改进的RCA清洗方法的机理、清洗特点和清洗局限.最后介绍了碲镉汞分子束......
3-氨丙基三乙氧基硅烷（APTES）是一种常用的表面修饰剂,通过化学键合的方式覆盖在硅结构表面形成APTES膜层,用以链接功能性生物分子。......
采用金刚石膜电极的电化学方式在专用水基清洗剂中不断产生强氧化剂过氧焦磷酸根离子（P2O8^4-），并将此方式作为金刚石膜电化学清洗工......
文章对大直径表面平整度检测中的纳米形貌概念作了说明,对纳米形貌与平整度、微粗糙度及比较作了叙述,指出了纳米形貌的形成原因及......
当前,硅外延片作为制备功率MOS等器件的关键支撑材料,对其表面的结晶质量有愈加严格的要求。硅外延片表面一旦存在雾状缺陷也就意......
利用原子力显微镜研究了预氧化清洗工艺对清洗后的硅片表面微粗糙的影响,并通过建立表面氧化过程的分子模型和氧化层模型来进行相......
通过研究硅片表面颗粒的吸附原理，提出了优先吸附模型，并提出改进SC-1的配方，不仅能去除颗粒，而且能有效去除有机物。介绍一些操作方法......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
期刊
快速退火(RTA)单晶硅片时,硅片内部会形成一种特殊的空位分布.空位的分布将决定后序两步退火(800℃,4h+1000℃,16h)后生成的洁净区......
随着IC产业的迅猛发展，电子器件的最小尺寸正在变得越来越小。当前，45nm工艺的芯片已经能够被大量的生产。众所周知，器件的最小尺寸主......
通过显微组织观察、WM-7S wafer surface analyzer设备检测对硅片表面粒子缺陷及微粗糙度进行了研究,并对精抛中各工艺参数下硅片......
简单说明了清洗技术在90～65nm节点技术阶段的新发展,着重介绍了一种新的清洗技术—低温冷凝清洗技术产生的背景、技术现状及其应用,......
