热丝CVD相关论文
化学气相沉积法(Chemical Vapour Deposition,简称CVD)制备出的金刚石膜具有和天然金刚石相近的一系列独特性能,在航空、航天、国......
以紫铜为基体,采用热丝CVD法合成金刚石薄膜,研究了钛过渡层及研磨金刚石粉(俗称“种植晶仔”)预处理对金刚石薄膜生长状态的影响......
在热丝CVD装置中,以氢气、丙酮、硼酸三甲脂为原料,在YG6上制备了含硼金刚石薄膜.研究丙酮中硼含量对薄膜表面晶形及晶粒度的影响.......
利用改进热丝化学气相沉积系统在(WC-Co)硬质合金牙钻切刃上沉积粘着性金刚石薄膜.试验发现,原生薄膜通常为聚晶,且薄膜覆盖效果良......
为改善钽喷丝头的品质,提高其硬度和耐碱腐蚀能力,利用热丝CVD制备不同粒径的金刚石薄膜,并通过对钽衬底的碳化处理,成功使之沉积......
利用热丝化学气相沉积(HFCVD)装置研究不同气压下氩气体积分数对金刚石膜晶粒尺寸的影响,并对不同气压下其微米纳米尺寸转变的临界......
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,以甲烷(CH4)和硅烷(SiH4)作为源反应气体在Si(111)衬底上生长了晶态SiC薄膜.通过X射线衍射(XRD)......
采用金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层是一种新型的微间隙室（MGC）结构。该文详细介绍和讨论了采用常规的微细加工工艺制备基于金刚......
在硬质合金和Si3N4陶瓷刀具表面采用热丝CVD法合成金刚石薄膜的结合性能具有明显差异.在沉积金刚石过程中,根据碳源通入系统中的时......
采用热丝化学气相沉积（chemical vapordeposition,CVD）的方法,以丙酮为碳源生长金刚石薄膜时,利用等离子体发射光谱对生长过程中的等......
采用HFCVD技术,通过两步CVD生长法,以CH4+SiH4+H2混合气体为生长源气,在Si衬底上生长3C-SiC晶体薄膜.对所制备的样品薄膜在氮气气......
本文以硅烷、乙炔和氢气为气源,采用热丝CVD法制备了非晶碳化硅薄膜。通过FITR、紫外-可见光分光光度计、四探针仪、台阶仪和霍尔......
采用热丝CVD法在单晶Si衬底上进行了Si和Ge薄膜的低温外延生长,用XRD和Raman谱对其结构性能进行了分析。结果表明：在衬底温度200℃......
以甲烷和氢气的混合气体为原料,用热丝化学汽相淀积法,在(100)硅衬底上800℃温度时异质生长出适合场发射的金刚石薄膜.然后用扫描......
对高H2稀释比条件下热丝CVD法制备GeSi薄膜的工艺参数对薄膜的键结构的影响进行了研究。用Raman谱和FT-IR谱对薄膜中非极性键（Ge—G......
利用金刚石纳米粉引晶方法在SiO2衬底上合成了高硼掺杂金刚石薄膜,并利用范德堡法、扫描电镜、激光拉曼方法对不同掺杂量下生长的......
利用金刚石纳米粉引晶法和常规研磨方法分别在单晶硅衬底上制备金刚石薄膜,并采用扫描电镜、激光拉曼方法对所制备样品进行表征,通......
以有机高分子化合物酒精和氢气为反应气体，用热丝CVD法在Al2O3陶瓷基片上沉积出金刚石薄膜,用拉曼光谱，X射线衍射等方法进行了表征。......
本文针对金刚石涂层应用于工具、模具的需要，研究脉冲偏压在热丝法沉积金刚石工艺中促进金刚石形核、生长的作用。进行了不同脉冲电......
采用热丝化学气相沉积法(HFCVD),使用CH4和H2作为反应气源,采用控制变量,在其他参数不变的情况下,改变灯丝的温度,沉积的气压等参......
目的 改善硬质合金表面金刚石薄膜的结合力。方法 采用热丝CVD法在硬质合金基体上制备金刚石薄膜,研究对比喷砂＋一步法、喷砂＋两步法......
本文主要对化学气相沉积法制备（类）金刚石薄膜专利申请中专利申请的年度变化趋势、专利申请国家/地区布局、制备方法、申请人类型、......
将等离子体引入热丝化学气相沉积(HWCVD)过程,并采用该技术制备了多晶硅和微晶硅薄膜,通过Raman散射、红外吸收谱等手段研究了薄膜......
采用热丝CVD方法,在Ф110mm的钼基体上,以丙酮为碳源,在高纯氢的作用下,成功地合成了高质量自支撑金刚石厚膜。X射线、SEM和拉曼光......
利用负偏压增强热丝化学气相沉积系统,在沉积有过渡层Ta和催化剂层NiFc的Si衬底上制备得到了碳纳米管.研究发现,负偏压对NiFe层的......
利用原位光发射谱对衬底附近的化学气相性质进行了研究. 研究表明，氮气的引入使得金刚石生长的气相化学和表面化学性质发生了很大变......
晶体硅太阳电池现行生产技术中普遍采用气相源扩散掺杂制备发射极,该法均匀性较差,且在现有基础上进一步提高发射极的方块电阻较为......
金刚石在力学、电学、热学、光学等方面具有许多优异的性能,使得其在很多方面都有着广泛的应用前景。由于天然金刚石含量稀少,难以......
CVD金刚石有着接近甚至是超过天然金刚石的一些优异性能,如高机械强度、高热传导率、低摩擦系数等,使得对CVD金刚石的研究吸引着众......
硼掺杂复合多晶金刚石薄膜(Boron-doped Diamond: BDD)制成的电极材料具有低背景电流、宽电化学势窗,极好的生物兼容性等优良特性......
本论文以采用热丝化学气相沉积（HFCVD）制备结合力良好的金刚石膜为出发点，以离子注入预处理改性为主导，制备了结合良好的金刚石膜。系......
化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜可以在多种基体上沉积,并且不受基体几何形状的限制,有广泛的应用前景。但是由于金刚石与基体的热膨......
硅基薄膜材料禁带宽度可调,光电性能良好,是第三代叠结太阳电池材料的研究热点之一。热丝CVD法制备非晶硅、锗硅等硅基薄膜性能相......
系统地研究了热丝CVD法中反应气体压力对沉积产物金刚石薄膜的形貌和拉曼谱图的影响,提出了热丝CVD生长纳米金刚石薄膜的新工艺,并......
NCD(nano-crystalline diamond)膜有很强的抗腐蚀特性,卓越的力学和摩擦学性能,是一种前景广阔的轴承涂层材料。热丝CVD(HFCVD)是......
较系统地研究了不同衬底材料对制备立方氮化硼薄膜的影响 .用热丝增强射频等离子体CVD法 ,以NH3,B2 H6和H2 为反应气体 ,在Si,Ni,C......
本文简要介绍了化学气相法(CVD)沉积金刚石薄膜原理和涂层模具的制备方法,以WC-Co硬质合金紧压模为衬底,用热丝CVD法沉积得到纳米......
