【摘 要】
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在磷酸溶液中,采用二次铝阳极氧化法得到了多孔铝阳极氧化膜(AAO).以AAO为模板,选用直流电沉积方法在孔内组装CdS半导体纳米线,溶去模板后,获得粗细均一、直径约为100nm、长
【机 构】
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天津大学化工学院杉山表面技术研究室
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在磷酸溶液中,采用二次铝阳极氧化法得到了多孔铝阳极氧化膜(AAO).以AAO为模板,选用直流电沉积方法在孔内组装CdS半导体纳米线,溶去模板后,获得粗细均一、直径约为100nm、长度约为1.5 μm的纳米线,与AAO模板的孔径一致.该方法在制备过程中,无需对AAO模板进行去除阻挡层、喷金或预镀金属等处理过程,而是直接在纳米孔内电沉积CdS,形成CdS半导体纳米线阵列.该方法工艺简单,操作方便,容易获得半导体CdS的一维纳米材料.TEM和XRD测试结果表明,CdS纳米线为六方晶型结构.对CdS纳米线的生长机
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