【摘 要】
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本文主要介绍了一种采用抛光垫夹持锗片进行抛光的新型抛光工艺。通过对比选用不同型号的抛光布,施加不同抛光压力及采用不同抛光液配比进行工艺对比试验,最终确定锗片抛光工
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所,
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本文主要介绍了一种采用抛光垫夹持锗片进行抛光的新型抛光工艺。通过对比选用不同型号的抛光布,施加不同抛光压力及采用不同抛光液配比进行工艺对比试验,最终确定锗片抛光工艺,并对采用该工艺抛光锗片进行测试分析。
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