抛光压力相关论文
磁流变抛光在其实际工作过程中,抛光区域几何特征的不同将会对流场创成的关键参数产生很大的影响.针对此问题建立三维模型与实验仿......
分析了非掺锑化镓单晶片的化学抛光机制和影响获得表面质量良好的非掺锑化镓单晶片的因素,得到了非掺锑化镓的抛光工艺参数。利用该......
本文主要介绍了一种采用抛光垫夹持锗片进行抛光的新型抛光工艺。通过对比选用不同型号的抛光布,施加不同抛光压力及采用不同抛光......
研究了铜化学机械抛光(CMP)过程中,不同压力和非离子型表面活性剂对片内非均匀性(WIWNU)的影响。通过改变抛光压力大小和非离子型......
随着光电子微电子技术的发展和应用,第三代半导体材料SiC成为该领域研究和关注的焦点,SiC优异的物理化学性能使之广泛应用于新一代电......
为了研究纳米抛光碳化硅时压力变化对表面的影响规律,建立了金刚石磨粒纳米抛光碳化硅的分子动力学模型,数值模拟了纳米尺度下的碳......
通过对柳埠红花岗石磨削、抛光加工的实验研究,得出了柳埠红花岗石最佳精磨磨削压力和最佳抛光加工工艺参数.结果表明,柳埠红花岗......
以喷油嘴喷孔为研究对象,采用k-ε模型、Mixture模型对磨粒流抛光过程中流场分布规律进行数值模拟,通过仿真模拟试验探索了在一定......
分析了非掺锑化镓单晶片的化学抛光机制和影响获得表面质量良好的非掺锑化镓单晶片的因素,得到了非掺锑化镓的抛光工艺参数。利用该......
在对硬盘基板CMP机理进行分析后,采用河北工业大学研制的计算机硬盘抛光专用碱性抛光液,选择氧化剂添加量、抛光压力两个重要参数分......
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目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题。在这里就影响大米抛光......
采用工业机器人进行大口径光学元件的研抛过程中,机器人自身定位误差会导致研抛压力产生波动,进而影响去除函数稳定性,为此提出了......
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硬质材料精密球是各种精密测量仪器中的重要元件,在精密工程领域发挥着重要的作用。精密球体加工机是硬质材料精密球加工的重要设......
针对高精密球体抛光机床压力加载控制中,存在的加压精度低、抗干扰能力差等问题,提出了基于模糊PID控制策略的压力加载控制系统;分......
双面抛光机广泛用于硅片、蓝宝石、陶瓷、磁性材料、电子器材的表面超光滑无损伤的平整加工。气动加载系统是双面抛光机实现精密抛......