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硅单晶中层错与氢的交互作用
硅单晶中层错与氢的交互作用
来源 :金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yjyu2012
【摘 要】
:
利用阴极充氢法,向硅单晶表面注入氢离子,用化学浸蚀法观察晶体表面氢与层错间的相互作用层错,特别是Frank半位错在硅单晶表面的露头处是原子氢的择优聚集区,原子氢化合成分子氢
【作 者】
:
蒋柏林
职任涛
褚武扬
【机 构】
:
北京科技大学!北京,100083,北京科技大学!北京,100083,北京科技大学!北京,100083
【出 处】
:
金属学报
【发表日期】
:
1997年06期
【关键词】
:
硅单晶
化学浸蚀法
晶格畸变
层错能
晶体表面
合成分子
氢离子
腐蚀坑
直拉法
腐蚀形态
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利用阴极充氢法,向硅单晶表面注入氢离子,用化学浸蚀法观察晶体表面氢与层错间的相互作用层错,特别是Frank半位错在硅单晶表面的露头处是原子氢的择优聚集区,原子氢化合成分子氢后能诱发大的晶格畸变利用化学浸蚀法,观察到了氢与层错的相互作用
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