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本文对等离子体环境对ITO薄膜低温生长的作用进行了分析。结果表明，等离子体辅助是低温沉积ITO薄膜的有效手段，适当强度的等离子体处理可以替代加热方法在室温下制备电阻率较低的ITO薄膜，并且不会对柔性高分子基体造成热损伤，为今后柔性基体上的ITO镀膜提供了理论依据。
等离子体环境对ITO薄膜低温生长的作用
【摘 要】
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本文对等离子体环境对ITO薄膜低温生长的作用进行了分析。结果表明，等离子体辅助是低温沉积ITO薄膜的有效手段，适当强度的等离子体处理可以替代加热方法在室温下制备电阻率较低
【机 构】
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北京科技大学材料物理与化学北京100083
【出 处】
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TFC'07全国薄膜技术学术研讨会
【发表日期】
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2007年期
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