钽薄膜相关论文
金属Ta薄膜作为电阻器件广泛应用在集成电路中,研究Ta薄膜的高温力学影响对集成电路的制造和使用是很重要的,该文详细介绍了利用梁弯曲的......
介绍了一种新型的在钢铁基体上制备钽薄膜的方法. 该方法用网状钽片作阴极, 它既是放电气体的离解源, 又是沉积钽膜的钽离子供给源......
在硅衬底上用不同淀积速率溅射得到了60 nm厚钽薄膜作为铜布线工艺中的扩散阻挡层.样品在退火前后,用二次离子质谱仪(SIMS)对钽膜......
本文应用磁控直流溅射方式制备厚度从0.1μm~0.25μm的Ta薄膜,通过改变溅射功率、基片的交流偏压和不同的基片,测定Ta薄膜的内应力。研究结果表明:在......
钽(V) propoxide (Ta (OPrn ) 5 ) , isopropoxide (Ta (OPri ) 5 ) 并且 butoxide (Ta (OBun ) 5 ) 被相应酒精的电气化学的反应作......
Ta2O5 薄电影被反应磁控管劈啪作响由快速的热退火跟随了的 DC (RTA ) 扔。表面特征,微观结构和 Ta2O5 薄电影的光性质上的劈啪作响......
中科院上海硅酸盐研究所黄富强研究团队与中科院上海微系统所、北京大学等合作,通过化学剥离成单层二硫化钽纳米片并将纳米片抽滤自......
采用直流磁控溅射在钢基体上制备了钽薄膜,研究了溅射气压和电流对钽膜相结构、表面形貌、硬度以及耐磨性的影响。XRD结果表明:钽膜......
Multi-arc ion plating method was employed to coat TiNi alloys with Ta in order to improve radiopacity and corrosion resi......
Measurement Changes in Activation Energy, Hall Effect and Seebeck Effect of Lead Telluride Thin Film
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利用直流磁控溅射方法在玻璃基片上沉积了金属钽薄膜,研究了边界效应对薄膜屈曲结构的影响。结果表明:制备态的钽薄膜包含较大的残......