氮化钽相关论文
为解决钛的摩擦、磨损和润滑问题，本文通过电泳沉积制备了一系列TaN/PEEK涂层，并探讨了TaN纳米颗粒对涂层微观结构、机械性能和摩擦......
氮化钽具有优良的物理化学性质,已被广泛应用于机械、防腐、催化、航空航天等领域。由于钽金属原子的d轨道空间分布复杂以及其化合......
本文介绍了利用磁控反应溅射的方法，找到与制备低温度系数、高稳定性、高精度氮化钽薄膜电阻器相关的氮分压、溅射电压及烘烤温度等......
近日,中国科学院院士、中科院大连化学物理研究所太阳能研究部李灿研究员和大连化物所施晶莹研究员团队在太阳能光电催化分解水制......
集成电路工业目前多使用如氮化钛、氮化钽等氮化物作为防止铜扩散的阻挡层。然而 ,在氟离子存在的情况下 ,铜、银和钯等金属离子会......
采用由60%氮化钽(Tantalnitrid)和40%二硼化锆(Zirkon Diborid)材料制成的刀具,加工下述6种材料获得了良好的效果。这6种材料是:T......
过去数十年来,基于半导体的光催化全水分解产氢气的相关研究已经获得了长足进展,是将太阳能转变为化学能的理想方式。目前为止,数......
自工业革命以来,随着化石燃料的不断开采,能源紧缺与环境污染问题日益严重。利用半导体光催化技术分解水产氢以及还原CO2转化为低......
1.前言加热物体被周围气体所传导的热量随气压而变化,利用此原理制造的皮拉尼(热传导型)真空计有比较简单的测量电路,即使在大气......
在耐热钢真空炉中,通氮气加热制备TaN粉。以钽粉为原料,研究了恒温温度、恒温时间和氮气分压对TaN产品含N量的影响,确定了制备TaN......
在氮气和氩气的混合气氛中,在不同N2分压下,用直流磁控溅射法在Si基片上沉积非晶态Ta–N薄膜。利用X射线衍射仪、原子力显微镜、台......
利用直流磁控反应溅射技术制备了Ｔａ－Ｎ薄膜。利用ＴＥＭ、ＸＲＤ研究了薄膜显微组织及结构。研究表明，薄膜晶粒细小，可达到１０ｎｍ；在一定工艺条件下制备的Ｔａ－Ｎ薄膜......
用钽膜制作薄膜电阻元件,具有制作方便,性能优良等优点。但是用来制造精密电阻网络,则其温度系数和长期稳定性尚嫌不足,为此,发展......
我们制备无衬底氮化钽薄靶的目的,是为着用核物理背散射实验法研究工业上生产的氮化钽薄膜的钽和氮的组份比,或它们的原子比。 众......
采用钽针尖氮化法首次制得了氮化钽场发射阴极。在加速电压为6.8kV,尖端温度为1300℃时,热场发射电流达210μA,相应的亮度可达3×1......
高精度、高稳定性氮化钽薄膜电阻器,是先在二极阴极溅射钽的同时,向真空室内充入适当量的氮气,进行反应溅射而获得氮化钽膜,再经......
本文用溶胶凝胶法合成了氮化钽纳米颗粒,表面吸附Fe可见光活化HO降解有机污染物。机理为可见光激发氮化钽促进表面吸附的Fe转化成F......
将均相还原制备的粒径为20～60nm的钽粉进行500～900℃热处理后,进行X射线衍射和BET比表面积分析.结果表明,均相还原法制备的纳米级钽......
生物材料与生物体的相互作用仅在表面的几个原子层范围内,生物材料的抗凝血性能与生物材料表面性质,如表面成分、结构、表面形貌、......
随着工农业的迅速发展和城市化进程的加快，含持久性有机污染物（PersistentOrganicPollutants，POPs）废水大量带入环境。POPs难降解并且......
当工艺特征尺寸减小到45nm或以下，沟槽和通孔高宽比大幅度增加，目前半导体工业界采用物理气相淀积的Cu籽晶层/钽(Ta)/氮化钽(TaN)三......
在32nm及以下技术节点,互连带来的延迟超过了门延迟,成为器件性能进一步提升的瓶颈。而接触层的W塞工艺在32 nm及以下技术节点带来......
随着化石资源的日益匮乏和环境污染的不断加剧，开发新型绿色可再生资源势在必行[1]。在众多的新能源中，太阳能以其能量辐射总量......
通信行业的持续成功依赖于通信服务的可靠性。无论是数据、语音还是视频，信息必须及时传输。服务的中断或不可靠经常会促使客户转换......
文章介绍的是由射频(RF)溅射反应沉淀制备的TaN薄膜,以及在各种N2/Ar气流比例和工作压力下测试其电阻率变化.从x射线衍射(X-RD)图......
利用直流磁控反应溅射技术制备了Ｔａ－Ｎ薄膜。利用ＴＥＭ、ＸＲＤ研究了薄膜显微组织及结构。研究结果，薄膜晶粒细小，可达到１０ｎｍ；在一定工艺条件下制备的Ｔａ－Ｎ薄膜......
研究了三极溅射法制备的ＴａＮ膜的结构、成分及其性能。实验发现：随着氮分压的增加，ＴａＮ膜的结构将从面心立方相转变为六方相；ＴａＮ膜的显微硬度在单......
文章介绍的是由射频（RF）溅射反应沉淀制备的TaN薄膜,以及在各种N2/Ar气流比例和工作压力下测试其电阻率变化。从X射线衍射（X-RD）图像和......
研究了钌(Ru)/氮化钽(TaN)双层结构对铜的扩散阻挡特性,在Si(100)衬底上用离子束溅射的方法沉积了超薄Ru/TaN以及Cu/Ru/TaN薄膜,在......
氮化钽（Ta<sub>2</sub>N）热场发射阴极有低、高两种发射状态。在这种阴极不馈有电压也不加温情况下,于一定时间内分别曝露于氧、氮、......
采用反应溅射在多靶溅射仪上制备了调制周期小于73.2 nm的一系列TaN/NbN纳米多层膜和TaN,NbN单层薄膜,并采用透射电子显微镜、显微......
日本东京大学的堂免一成教授与北海道大学的阿部龟准教授的研究小组开发成功一种新型TaON光电极，可在可见光照射下将水分解而产出H2......
本文利用磁控反应溅射技术制备氮化钽薄膜，对磁控反应溅射制备氮化钽薄膜的工艺参数（包括氮分压比，加热温度，溅射压力，溅射电流）用正交设......
由于人类活动的增加和能源的过度消耗,大气中的二氧化碳浓度逐年递增,全世界都在寻求合适的方法以应对能源危机和环境问题。二氧化......
学位
利用离子束辅助沉积技术制备ＴａＮ薄膜，并对其进行Ｘ射线衍射分析，掠入射的Ｘ射线衍射分析得出：离子束辅助沉积制备的ＴａＮ薄膜胆面心立方结构，晶格常......
