快速光热退火相关论文
随着科技的不断进步,人们对光电子器件在性能和尺寸方面要求日益提高,从而引发对纳米薄膜材料的研究热潮。二氧化铪（HfO2）薄膜因其具......
能源危机、环境污染已经成为21世纪人类急需解决的重要问题,全世界各国都在积极推动能源结构转型,发展和利用清洁能源。太阳能由于......
能源与环境问题是人类发展面临的两大难题,发展清洁的可再生能源是解决问题的关键,因此探索和发展新能源材料成为人们的研究热点。......
用等离子体增强型化学气相沉积先得到非晶硅(a-Si:H)薄膜,再用卤钨灯照射的方法对其进行快速光热退火(RPTA),得到了多晶硅薄膜.然......
用等离子体增强型化学气相沉积先得到非晶硅薄膜,再用卤钨灯照射的方法对其进行快速光热退火,得到了多晶硅薄膜,它与传统退火相比,......
富硅氮化硅薄膜因其具有良好的物理、机械和光学性能,被广泛应用于半导体领域。本文采用磁控共溅射法在玻璃衬底上沉积了富硅氮化......
为了制备应用于太阳电池的优质多晶硅薄膜,研究了非晶硅薄膜的快速光热退火技术.先利用PECVD设备沉积非晶硅薄膜,然后放入快速光热......
利用射频等离子体增强化学气相沉积法（RF-PECVD）在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快......
采用射频和脉冲磁控共溅射法并结合快速光热退火法制备了含硅量子点的SiCx薄膜.采用掠入射X射线衍射、喇曼光谱、紫外-可见-近红外......
采用磁控共溅射结合快速光热退火技术在单晶硅和石英衬底上制备了含硅量子点的周期性梯度富硅SiNx薄膜(梯度薄膜)和单层富硅SiNx薄......
采用磁控溅射技术首先在单晶硅衬底上溅射石墨缓冲层,然后在石墨层上溅射沉积Ge薄膜。采用快速光热退火和常规热退火对Ge薄膜后续......
