光刻性能相关论文
光刻胶是一种具有光敏性的薄膜材料，它是光电信息产业中微细加工技术的关键性基础材料。通常光刻胶由成膜树脂、光致产酸剂、溶剂和......
根据下一代光刻技术发展趋势和2005年国际半导体技术路径图(ITRS)给出的技术路径,浸没式ArF(氟化氩)光刻是实现特征尺寸(CD,Critic......
对聚酰亚胺(PI)+二叠氮萘醌(DNQ)型及聚酰亚胺前驱体(聚酰胺酸,PAA)+DNQ型正性光刻胶材料的研究成果进行了综述。讨论了这两种正性......
投影式光刻机是微电子产业中极大规模集成电路的加工设备。照明系统和投影物镜系统是投影式光刻机的重要组成部分，其性能的好坏对光......
