交换偏置场相关论文
用磁控溅射法制备了NiFe/PtMn双层膜,研究了在界面加入少量的Cr对交换偏置场的影响.结果发现:在Pt成分较高时,界面加Cr对反铁磁层......
目的:旨在确定柔性衬底上对交换偏置的主要贡献是铁磁(FM)/反铁磁(A FM)界面效应还是AFM体效应.方法:采用超高真空磁控溅射法在柔......
我们在 La0.5Ca0.5FeO3- perovskite 化合物观察了交换偏爱效果。交换偏爱在 175 K 下面从 Fe4+ 离子与费用 disproportionation ......
交换偏置效应(Exchange Bias Effect,EB)来源于系统中铁磁相与反铁磁相的交换耦合,在自旋阀、磁性随机存储器和磁性隧道结等方......
目的:研究溅射在聚酰亚胺PI柔性衬底上铁磁/反铁磁Ni81Fe19/Fe50Mn50双层膜的交换偏置效应。方法:采用超高真空磁控溅射法在柔性衬......
利用电场控制材料的磁性（磁电耦合）是发展高密度、低功耗、高速度、多功能自旋电子器件的关键,已成为自旋电子学领域的研究热点。在......
采用磁控溅射方法制备了分别以Ta和Ta Cu作为缓冲层的一系列NiFe FeMn双层膜 .实验发现 ,以Ta为缓冲层的NiFe FeMn双层膜的交换偏......
制备了一系列具有铁磁/反铁磁交换偏置作用的[NiO/Fe65Co35]10多层膜,使用振动样品磁强计(VSM)测量了样品的静磁参数,利用微带线法......
用共溅射的方法制备CoFe/CrPt(X)、CoFe/Mn/CrPt(x)薄膜.通过改变反铁磁层的厚度,研究影响交换偏置的因素.结果表明:界面结构、反......
对于CoCr/FeMn双层膜,交换偏置场与铁磁层的厚度t成反比例关系.与CoCr单层膜的变化趋势相同,双层膜的矫顽力随t的增加而增加.尤其,......
磁性薄膜作为高密度的磁记录介质,近年来一直受到人们的广泛关注。特别是在2007年诺贝尔物理学奖授予发现“巨磁电阻效应”的科学......
采用磁控溅射方法制备了分别以Ta和Ta/Cu作为缓冲层的一系列NiFe/FeMn双层膜.实验发现,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn 双层膜的交换偏置......
采用平面霍尔效应测量方法,对NiFe/FeMn双层膜的交换耦合进行了研究.结果表明,在NiFe/FeMn体系中不存在spin-flop模型给出的单轴各......
将NiFe/PtMn双层膜生长在(Ni0.81Fe0.19)1-xCrx种子层材料上,通过改变种子层中Cr的原子含量,系统的研究了NiFe/PtMn双层膜中PtMn晶......
采用磁控溅射的方法制备了一组以(Ni0·81Fe0·19)1-xCrx作为缓冲层的NiFe/PtMn双层膜样品,研究了NiFe/PtMn双层膜的形成过程和热......
采用磁控溅射方法制备NiFe/FeMn双层膜 (分别以Ta、Cu作为缓冲层 ,Ta作为保护层 )。实验发现 ,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交......
通过调整Mn的成分 ,系统地研究了Ni81 Fe1 9 Ni1 0 0 -xMnx 双层膜的磁学性质 ,特别是交换偏置场 (Hex)的变化 .当Ni1 0 0 -xMnx ......
我们用磁控溅射方法制备了FeMn／FeMnC／Co薄膜，研究了FeMn-FeMnC-Co体系的交换偏置现象．并探讨了铁磁薄膜FeMn／Co的交换偏置场相对于插入......
用化学共沉淀法制备出颗粒细小的CoFe2O4纳米微粉，利用x射线衍射确定了粉体的组成，利用扫描电子显微镜观察了颗粒的形貌，利用振动样品......
采用高真空直流磁控溅射的方法制备了结构为//Ta（5nm）/Co75Fe25（5nm）/Cu（2.5nm）/Co75Fe25（5nm）/Ir20Mn80（12nm）/Ta（8nm）的顶钉扎自旋阀多层膜,......
研究在铁磁／反铁磁层体系中，当铁磁层中存在应力时对体系交换偏置场的影响．分别计算了改变应力大小和方向两种情况下，磁滞回线的变化以......
采用修正的蒙特卡罗模拟方法研究了界面为反铁磁性耦合的铁磁/反铁磁双层膜系统中的约化交换偏置场。当约化冷却场强度从0.05增加......
采用磁控溅射制备了Ta/NiFe/IrMn/Ta薄膜,研究了反铁磁IrMn的溅射功率和铁磁层NiFe厚度对多层膜交换偏置场的影响。在反铁磁IrMn中......
采用高真空直流磁控溅射的方法制备了结构为//Ta（5nm）/Co75Fe25（5nm）/Ir20Mn80（12nm）/Ta（8nm）双层膜,通过X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）和......
采用磁控溅射法在Si（100）基片上沉积了PtMn／Co双层膜，研究退火温度与样品微结构以及磁性的关系，发现退火温度越高，反铁磁性PtMn层由fcc非......
采用磁控溅射方法制备NiFe/FeMn双层膜（分别以Ta、Cu作为缓冲层，Ta作为保护层）。实验发现，以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场......
制备了一系列具有铁磁／反铁磁交换偏置作用的[NiO／Fe65Co35]10多层膜，使用振动样品磁强计（VSM）测量了样品的静磁参数，利用微带线法测量了......
用溶胶-凝胶制备了系列Ni0.2Cu0.2Zn0.6Fe2O4铁氧体微粉。磁滞回线表明,Ni0.2Cu0.2Zn0.6Fe2O4在常温和低温都出现了交换偏置场,主......
采用磁控溅射方法制备结构为CoFe／Cu／CoFe／IrMn的自旋阀结构多层膜，研究它的热弛豫现象。实验表明，多层膜在其负饱和场中等待时，钉扎层的......
在科学技术日新月异的今天,以磁性材料为基础的自旋电子器件广泛地应用于生活的各个方面。而磁性薄膜结构以其独特的光学、力学、......
研究铁磁／反铁磁双层膜系统中交换偏置场和矫顽场的冷却磁场依赖性．结果表明，随着冷却磁场的增加，交换偏置场由负值向正值转变．在转变点......
该文采用高真空磁控溅射技术分别制备了无缓冲层的NiFe／IrMn和IrMn／NiFe及有缓冲层的IrMn／NiFe3种结构薄膜，并用振动样品磁强计对样品......
在具有垂直磁各向异性Pt／（Pt／Co）n／FeMn／Pt多层膜中的Co／FeMn界面插入极薄的Pt层时，其交换偏置场有明显提高。研究结果表明：由于在Co／FeMn界......
采用MonteCarlo模拟方法，通过反铁磁层中非磁性掺杂方式调节铁磁层与反铁磁层界面微结构，讨论了其界面微结构对体系的磁滞回线的不对......
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近年来,随着科学技术的发展,人们要求提高信息存储密度,缩小存储器件尺寸。存储器件中磁性颗粒的尺寸缩小,有利于提高存储密度,但......
用溶胶-凝胶法制备了系列镍铜锌铁氧体微粉。借助于TG—DTA、XRD、SEM、VSM技术，对干凝胶的热分解过程、产物的物相、微观结构和磁......
通过高真空直流磁控溅射的方法制备了结构为／／Ta（5nm）／Co75Fe25（5nm）／Cu（2．5nm）／Co75Fe25（5nm）／Ir20Mn80（12nm）／Ta（8nm）的顶钉扎自旋阀结构多层膜，研究了......
采用高真空直流磁控溅射的方法制备了结构为//Ta（5nm）/Co75Fe25（5nm）/Ir20Mn80（12nm）/Ta（8nm）的双层膜,通过X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM......
通过激光加热对 Ni81 Fe19（15 nm ）/Ni45 Mn55（x nm）磁性双层膜进行快速退火处理,系统研究了激光辐照参数对交换偏置场（H ex ）大小的影响......
用溶胶-凝胶制备了系列Ni0.4Mn0.3Zn0.3Fe204铁氧体微粉。借助于TG-DTA、XRD、TEM、VSM和PNA技术,对干凝胶的热分解过程、产物的物......
为了更加清楚地认识铁磁／反铁磁双层膜(FM／AFM)中交换偏置的本质，我们首先研究了双层膜界面中双二次耦合对磁滞回线和交换偏置场随外......
研究了界面双线性耦合和双二次耦合对铁磁/反铁磁双层膜中交换偏置场的影响.结果表明:随着双线性耦合场或双二次耦合场的增加,交换......
