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CZ硅片相关论文

快速退火气氛对300mm CZ硅片吸杂效应和表面微观结构的影响

研究了N2和N2／NH3混合气两种不同气氛快速退火处理硅片对洁净区和氧沉淀分布的影响．研究发现：N2／NH3混合气氛处理的硅片在后序热处理中......

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300mm CZ硅片洁净区本征吸杂快速退火 X射线光电子能谱原子力显微镜 300mm CZ silicon wafer denuded zone i

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