CH薄膜相关论文
本文用一维多群辐射输运流体力学RDMG程序数值模拟研究了在神光-Ⅱ黑腔辐射源条件下,非平衡辐射烧蚀CH薄膜的过程,给出了与平衡辐......
CH薄膜的制备是埋点靶制备的关键技术之一，主要研究了钨丝辅助裂解制备CH薄膜的制备工艺。研究表明蒸发舟温度和衬底温度对沉积速率......
用一维非平衡辐射输运程序和实验提供的黑腔辐射流,对CH薄膜靶的辐射烧蚀进行了数值模拟计算.计算结果表明,非平衡的黑腔辐射场对C......
研究了不同衬底-阴极距离、直流电压和H2流量对a-CH薄膜沉积速率的影响.结果表明:衬底-阴极距离必须大于0.5cm,随着该距离的增加,......
为研究辐射场非平衡性对ICF内爆靶丸辐射烧蚀效果的影响，在普朗克谱的高频区（Au的M带）叠加高斯谱人为地构造辐射源的能谱，利用1维多群......
热丝辅助裂解法是结合气相沉积制备聚对二甲苯薄膜和热丝化学气相沉积而形成的一种制备CH薄膜的新方法.热丝辅助裂解法的最大特点......
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